Num |
Title |
Author |
Journal |
Publish date |
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64 |
나노스케일 질화규소 멤브레인의 기계적, 열적 특성 분석 |
장용주, 신현진, 위성주, 김하늘, 이기성, 안진호 |
대한금속재료학회지 |
2019.01.09 |
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63 |
Effects of an In vacancy on local distortion of fast phase transition in Bi-doped In3SbTe2 |
Minho Choi, Heechae Choi, Seungchul Kim, Jinho Ahn and Yong Tae Kim |
Journal of the Korean Physical Society |
2017.12.29 |
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62 |
새로운 EUV 흡수체 연구 : 니켈 & 니켈 산화물 |
우동곤, 김정환, 김정식, 홍성철, 안진호 |
대한금속재료학회지 |
2017.03.01 |
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61 |
극자외선 노광공정에서의 사이드 로브 세기와 포톤 샷 노이즈 효과가 컨택 홀 missing 현상에 미치는 영향 |
김정식, 홍성철, 장용주, 안진호 |
대한금속재료학회지 |
2017.02.02 |
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60 |
Effect of Side Lobe Intensity and Photon Shot Noise Effect on the Missing Hole Phenomenon in Extreme Ultraviolet Lithography |
Jung Sik Kim, Seongchul Hong, Yong Ju Jang, and Jinho Ahn |
Korean Journal of Metals and Materials |
2017.02.02 |
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59 |
EUV 펠리클 투과도에 따른 이미지 전사 특성 분석 |
우동곤 , 김정환 , 김정식 , 홍성철 , 안진호 |
반도체디스플레이기술학회지 |
2016.09.14 |
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58 |
Optical Proximity Correction using Sub-resolution Assist Feature in Extreme Ultraviolet Lithography |
Jung Sik Kim, Seongchul Hong, Yong Ju Jang, and Jinho Ahn |
Journal of the Semiconductor & Display Technology |
2016.09.09 |
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57 |
고 개구수 극자외선 노광 기술용 위상 변위 흡수체 구조의 설계 |
장용주, 김정식, 홍성철, 안진호 |
대한금속재료학회지 |
2016.06.01 |
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56 |
그림자 효과 완화 및 내화학성 향상을 위한 Ni-Ta 흡수체 연구 |
우동곤, 홍성철, 김정식, 양철규, 이종화, 신철, 안진호 |
대한금속재료학회지 |
2016.05.04 |
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55 |
6.7nm 리소그래피용 브래그 반사형 거울과 흡수체 물질 연구 |
정성훈, 홍성철, 김정신, 안진호 |
대한금속재료학회지 |
2016.05.01 |
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54 |
Refilled mask structure for Minimizing Shadowing Effect on EUV Lithography |
Jinho Ahn, Hyun-Duck Shin, Chang Young Jeong |
Journal of the semiconductor & Display Technology |
2010.12.12 |
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53 |
Determination of the CD Performance and Carbon Contamination of an EUV |
Jonggul Doh, Chang Young Jeong, Sangsul Lee, Jae Uk Lee, Han-sun Cha and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2010.12 |
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52 |
Optical properties of TiO2 zigzag films prepared by oblique angle deposition |
Yong Jun Park, K.M.A. Sobahan, Chang Kwon Hwangbo, Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2010.04 |
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51 |
Fabrication of two-dimensional periodic structures in silicon by four beam interference lithography |
G. J. Lee, Y. P. Lee, K. R. Kim, M. I. Jang, J. Ahn, C. Yoon, Y. Son and J. Jang |
Journal of the Korean Physical Society |
2006.12.20 |
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50 |
Metal precursor effects on deposition and interfacial characteristics of HfO2 dielectrics grown by atomic layer deposition |
I.-S. Park, T. Lee, D. Choi and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2006.12 |
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49 |
Resistive switching characteristics of HfO2 grown by atomic layer deposition |
K. Kim, I.-S. Park, J. Hong, S. Lee, B. Choi and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2006.12 |
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48 |
Study of a thin Al2O3/TaN absorber stack on Ru-capped multilayers |
Tae Geun Kim, Seung Yoon Lee, Chung Yong Kim, Byung Hun Kim, In-Yong Kang, Nae-Eung Lee, Yong-Chae Chung, In-Sung Park, and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2006.12 |
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47 |
Electrical and Reliability Characteristics of HfO2 MOS Capacitor with Mo Metal Gate Electrode |
In-sung Park, Taeho Lee, Han-Kyoung Ko, Jin-Ho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2006.12 |
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46 |
Study on the Characteristics of SiO2 Films Prepared by Hydrogen-assisted Low-pressure Radical Oxidation Using Batch-type Equipment with a 100-wafers of 300-mm-diameter Capability |
Jae-Jong Han, Kong-Soo Lee, Jung-Geun Jee, Woong Lee, Yong-Woo Hyung, and Hyeon-Deok Lee and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2006.11 |
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45 |
유연성 유기물 transistor 제작을 위한 고유전 박막위에서의 Pentscene의 특성 |
이순우, 이상설, 박정호, 박인성, 설영국, 이내응, 안진호 |
마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2006 |
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44 |
이원계 SiO2와 TiO2 박막의 저항 변화 특성 |
박인성, 김경래, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2006 |
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43 |
Aerial image characteristics of a modified absorber model for extreme ultraviolet lithography |
In-Yong Kang, Jinho Ahn, Yong-Chae Jung and Hye-Keun Oh |
Journal of the Korean Physical Society |
2005.11 |
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42 |
Defect Characterization of Ru/Mo/Si EUV Reflector by Optical Modeling |
I.-Y. Kang, J. Ahn, H.-K. Oh and Y.-C. Chung |
Journal of the Korean Physical Society |
2005.11 |
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41 |
Reduction of the absorber shadow effect by changing the absorber side wall angle in extreme ultraviolet lithography |
M. Yoo, Y. Jeon, H. Oh and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2005.04 |
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40 |
UV 차단 금속막을 이용한 잔류층이 없는 UV 나노 임프린트 패턴 형성 |
문강훈, 신수범, 박인성, 이헌, 차한선, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패키징학회지 |
2005 |
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39 |
Thermal and electrical properties of TaN electrode on HfO2 gate dielectric |
T. Lee, H. Ko, Y. Kim and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2004.11 |
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38 |
Characteristics of Ru barrier layer in Mo/Ru/Si multilayer for EUV reflector applications |
T. Kim, S. Lee, J. Park and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2004.11 |
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37 |
MOCVD를 이용한 HfO2/SiNx 게이트 절연막의 증착 및 물성 |
이태호, 오재민, 안진호 |
마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2004 |
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36 |
Effect of glass-forming elements (Si, Al and Bi) on the characteristics of Zr-based oxide films |
J. Kim, S. Kong and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2003.11 |
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35 |
Structural Analysis of a Mo/Si reflector by optical modeling |
Kang, C. Chung, Y. Chung, T. Kim, S. Lee and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2003.11 |
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34 |
Enhancement of EUV reflective multilayer properties by the insertion of a Ru barrier layer |
S. Lee, T. Kim and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2003.02.19 |
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33 |
Characterization of ultra-thin HfO2 gate oxide prepared by using atomic layer deposition |
T. Lee, J. Ahn, J. Oh, Y. Kim, Y. Kim, D. Choi and J. Jung |
Journal of the Korean Physical Society |
2003.02 |
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32 |
Characteristics of Platinum films etched with a SF6/Ar plasma |
Sang Hoon Kim, Soon Woo Lee, Jaehee Hwang and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2003.01.03 |
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31 |
Simulation of the optical anomaly in a Mo/Si multilayer system for an EUV reflector |
I. Kang, Y. Lee, Y. Chung, H. Kim, S. Hur, S. Lee, J. Ahn, C. Yoon, C. Kim |
Journal of the Korean Physical Society |
2002.10 |
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30 |
Mo/Si multilayer for EUV lithography applications |
S. Lee, H. Kim, J. Ahn, I. Kang and Y. Chung |
Journal of the Korean Physical Society |
2002.10 |
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29 |
Study of the Etching Mechanism of Tantalum Thin Films by Argon Actinometry |
Sang Hoon Kim, Sup Yeol Ju, Kyung Jong Lee and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2002.01 |
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28 |
Study on the Application of SiCxNy Thin film as a Mask Membrane for LIGA |
Chang Mo Park, Tae Ho Lee, Jin Nam Cheon, Seung Yoon Lee, Young Do Kim, Dongwook Shin and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2002.01 |
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27 |
Actinometry study on the role of fluorine in low-k polyimide etching |
Sang Hoon Kim, Chang Hee Lee, and Jinho Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2002.01 |
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26 |
Membrane을 이용한 박막센서 특성 분석 |
이순우, 김상훈, 안진호 |
마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2002 |
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25 |
극자외선 반사를 위한 마스크 및 광학계의 개발 동향 |
이승윤, 안진호, 손영수 |
전기의 세계(Proceedings of KIEE) |
2002 |
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24 |
수치적 계산을 이용한 Bragg reflector형 체적 탄성파 공진기의 특성분석 |
김주형, 이시형, 안진호, 주병권, 이전국 |
한국세라믹학회지 |
2001 |
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23 |
Pt 박막의 SF6/Ar과 Cl2/Ar 플라즈마 가스와의 표면반응에 관한 연구 |
김상훈, 주섭열, 안진호 |
한국 마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2001 |
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22 |
Mo/Si 다층박막의 극자외선 반사도에 대한 전산모사 |
이영태, 강인용, 정용재, 이승윤, 허성민, 안진호, 복철규 |
한국 마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2001 |
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21 |
Mo/Si 다층박막의 특성평가에 관한 연구 |
허성민, 김형준, 이동현, 이승윤, 이영태, 강인용, 정용재, 안진호 |
한국 마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2001 |
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20 |
Deposition of SiCxNy thin film as a membrane application |
허승민, 박창모, 안진호 |
마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2001 |
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19 |
Comparative Study of Ta and its Compounds for Next Generation Lithography Mask Applications |
K. Kim, S. Lee, C. Park and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
2000.12 |
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18 |
Actinometry를 이용한 Ta 미세 패턴 식각특성에 관한 연구 |
김상훈, 안진호 |
한국 마이크로전자 및 패키징 학회지 |
2000 |
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17 |
비대칭 펄스 직류 반응성 스퍼터링으로 증착된 AlN 박막의 성장 거동 |
김주형, 이전국, 안진호 |
한국세라믹학회지 |
2000 |
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16 |
ECR 식각공정에 따른 층간절연막 폴리이미드의 전기적 특성 |
김상훈, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패캐징 학회지 |
2000 |
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15 |
차세대 노광공정용 Ta박막의 0.2μm 미세패턴 식각특성 연구 |
우상균, 김상훈, 주섭열, 안진호 |
한국재료학회지 |
2000 |
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14 |
X-선 노광용 마스크 제작공정에 관한 연구 |
박창모, 우상균, 이승윤, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패캐징 학회지 |
2000 |
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13 |
Low-k polyimide상의 금속배선 형성을 위한 식각기술 연구 |
문호성, 김상훈, 안진호 |
한국재료학회지 |
2000 |
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12 |
Ti 함량변화에 따른 X선 노광 마스크용 W-Ti 흡수체의 물성 연구 |
김경석, 이규한, 임승택, 이승윤, 안진호 |
한국재료학회지 |
2000 |
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11 |
A study on the characteristics of the interlayer low dielectric polyimide during Cl-based plasma etching of aluminium |
S. Kim, H. Moon and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
1999.12 |
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10 |
염소 플라즈마를 이용한 알루미늄 식각공정이 저유전상수 층간절연막 polyimide에 미치는 영향 |
문호성, 김상훈, 이홍구, 우상균, 김경석, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패캐징 학회지 |
1999 |
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9 |
Micromachining을 이용한 초소형 자왜 센서 제작공정 연구 |
김경석, 고중규, 임승택, 박성영, 이승윤, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패캐징 학회지 |
1999 |
|
8 |
A novel anti-reflective structure with Al/SiO2 stack films for metal layer patterning |
S. Choi, J. Kim, H. Cha, J. Park, J. Ahn, J. Jo, H. Chung, S. Chang, B. Kim |
Journal of the Korean Physical Society |
1998.12 |
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7 |
Anisotropic etching of tungsten nitride with ICP system |
H. Lee, C. Jeong, H. Moon, S. Kim, and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
1998.12 |
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6 |
Deposition of low stress, high transmittance SiC as an X-ray mask membrane using ECR plasma CVD |
S. Lee, J. Kamg, S. Lim, and J. Ahn |
Journal of the Korean Physical Society |
1998.12 |
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5 |
Deposition and characterization of SiN and SiC for membrane applications |
이승윤, 강정호, 손주혁, 안진호 |
한국마이크로전자 및 패캐징 학회지 |
1998 |
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4 |
Development of x-ray mask fabrication process using W-sputtering |
T. Lee, S. Lee and J. Ahn |
Metals and Materials |
1997 |
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3 |
실리콘 질화막을 이용한 X선 리소그라피 마스크용 박막물질의 개발 |
이태호, 안진호 |
한국재료학회지 |
1997 |
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2 |
X-선 노광공정용 마스크 재료의 개발 |
안진호 |
대한금속학회회보 |
1997 |
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1 |
ICP etching of tungsten for x-ray masks |
C. Jeong, K. Song, C. Park, Y. Jeon, D. Lee, and J. Ahn |
표면공학회지 |
1996 |
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