| Num | Title | Conference | Author | Date | |
|---|---|---|---|---|---|
| 380 | EUV 펠리클의 emissivity에 대한 다층 emission 구조의 영향 연구 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 강영우, 김하늘, 김원진, 김정연, 박영욱, 안진호 | 2024.01.26 | |
| 379 | Fizeau interferometry를 이용한 EUV attenuated phase shift mask 평가 기술 연구 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 이동기, 문승찬, 홍준호, 안진호 | 2024.01.26 | |
| 378 | Focus에 따른 마스크 특성 변화 완화가 가능한high-NA EUV 노광 공정용 high-k binary 마스크 연구 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 이승호, 정동민, 김연수, 안진호 | 2024.01.24 | |
| 377 | Epitaxial growth 를 통한 Poly-Si 기판에서의 선택적 증착 특성 연구 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 김성준, 박준형, 정회윤, 신왕철, 박인성, 박영욱, 안진호 | 2024.01.24 | |
| 376 | Grain size 및 조성비에 따른 EUV 펠리클의 기계적 특성 변화 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 김원진, 김하늘, 강영우, 김정연, 박영욱, 안진호 | 2024.01.24 | |
| 375 | EUV 펠리클에 포집된 임계 크기의 입자가 마스크 이미지 전사특성에 미치는 영향에 대한 실험적 연구 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 문승찬, 이동기, 홍준호, 안진호 | 2024.01.24 | |
| 374 | EUV 마스크 용 Pt 기반 흡수 소재 식각 성능 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 김연수, 정동민, 이승호, 안진호 | 2024.01.24 | |
| 373 | Fluorine 및 chlorine계 플라즈마 적용 유기-무기 수직분자선 다층 분자막 EUV 포토레지스트의 건식 현상 성능 비교 평가 | The 31th Korean Conference on Semiconductors | 석지후, 정지우, 지현석, 이재혁, 박인성, 성명모, 안진호 | 2024.01.24 | |
| 372 | Ru Compound Formation at the Interface between Ru and SiGe with Forming Gas Annealing | nano convergence conference 2024 | Jun Hyeong Park, Sung Jun Kim, In-Sung Park, Young Wook Park, and Jinho Ahn | 2024.01.19 | |
| 371 | Investigating Grain Growth in CVD and Sputtered Si Films for 3D DRAM Applications | nano convergence conference 2024 | Sung Jun Kim, Jun Hyeong Park, In-Sung Park, Young Wook Park, and Jinho Ahn | 2024.01.19 | |
| 370 | Experimental Investigation of the Mask Diffraction Light Blocking with a Critical Sized Sn Particle on EUV Pellicle | nano convergence conference 2024 | Seungchan Moon, Dong Gi Lee, Junho Hong, and Jinho Ahn | 2024.01.19 | |
| 369 | Investigating the Impact of Multi-emission Layers on the emissivity of EUV pellicles | nano convergence conference 2024 | Young Woo Kang, Haneul Kim, Won Jin Kim, and Jinho Ahn | 2024.01.19 | |
| 368 | High-k binary Mask for Alleviating Fluctuations of Mask Performance based on Focus in High-NA Lithography | nano convergence conference 2024 | Seungho Lee, Dongmin Jeong, Yunsoo Kim, and Jinho Ahn | 2024.01.18 | |
| 367 | Effect of Grain Size and Composition on the Mechanical Properties of EUV Pellicle | nano convergence conference 2024 | Won Jin Kim, Haneul Kim, Young Woo Kang, Young Wook Park, and Jinho Ahn | 2024.01.18 | |
| 366 | Fizeau Interferometer for Evaluating Extreme Ultraviolet Attenuated Phase Shift Mask | nano convergence conference 2024 | Dong Gi Lee, Seungchan Moon, Junho Hong, and Jinho Ahn | 2024.01.18 | |
| 365 | Promising Absorber Solution for Best Focus Shift Mitigation in High-NA EUV Mask | nano convergence conference 2024 | Dongmin Jeong, Yunsoo Kim, Seungho Lee, and Jinho Ahn | 2024.01.18 | |
| 364 | 고개구수 극자외선 노광공정에 적용가능한 합금형 Pt-W 마스크 흡수 소재 연구 | 2023 차세대 리소그래피 학술대회 | 이승호, 정동민, 김연수, 안진호 | 2023.08.22 | |
| 363 | CF4, Cl2 가스를 이용한 유기-무기 다층 분자막 구조 EUV 포토레지스트의 건식 현상 공정 성능 비교 연구 | 2023 차세대 리소그래피 학술대회 | 정지우, 석지후, 지현석, 이재혁, 성명모, 안진호 | 2023.08.22 | |
| 362 | 펠리클 표면에 존재하는 임계 크기 입자에 의한 회절광 산란이 마스크 이미지 전사 특성에 미치는 효과 연구 | 2023 차세대 리소그래피 학술대회 | 문승찬, 이동기, 홍준호, 안진호 | 2023.08.22 | |
| 361 | MoSi2 EUV 펠리클의 결정성에 따른 열적 하중 인가로 인한 물성 변화 영향 분석 | 2023 차세대 리소그래피 학술대회 | Ha Neul Kim, Jinho Ahn | 2023.08.21 | |
| 360 | Impact of MoSi2 Crystal Structure on Emissivity for the Application to EUV Pellicle | NANO KOREA 2023 | Jungyeon Kim, Ha Neul Kim, Seong Ju Wi, Young-Woo Kang, Won Jin Kim, and Jinho Ahn | 2023.07.07 | |
| 359 | Dry Development Process for Organic-Inorganic Hybrid EUV Photoresist | NANO KOREA 2023 | Jiwoo Jung, Ji-Hoo Seok, Hyeonseok Ji, Jaehyuk Lee, Myung Mo Sung, and Jinho Ahn | 2023.07.06 | |
| 358 | Forming Gas Annealing Effect on Reducing Oxygen at Ru/W Interface for Memory Capacitor Application | NANO KOREA 2023 | Sung Jun Kim, In-Sung Park, Young Wook Park, and Jinho Ahn | 2023.07.06 | |
| 357 | Evaluation Method for Refractive Index and Extinction Coefficient of EUV Mask Materials using Optical Flats | NANO KOREA 2023 | Dong Gi Lee, Seungchan Moon, Jinhyuk Choi, and Jinho Ahn | 2023.07.06 | |
| 356 | Near-field Infrared Nanoscopic Study of EUV- and e-beam-exposed Hydrogen Silsesquioxane Photoresist | NANO KOREA 2023 | Jiho Kim, Jin-Kyun Lee, Boknam Chae, Jinho Ahn, and Sangsul Lee | 2023.07.05 | |
| 355 | Thermal Emissivity Measurement of Pellicle Membranes for EUV Lithography | NANO KOREA 2023 | Nam Hyeon Kim, Jiho Kim, Yongkyung Kim, Geonhwa Kim, Seul-Gi Kim, Hyun-Mi Kim, Jinho Ahn, Hyeongkeun Kim, and Sangsul Lee | 2023.07.05 | |
| 354 | High-k Absorber Based EUV Mask for Depth of Focus and M3D Effects Control | NANO KOREA 2023 | Dongmin Jeong, Yunsoo Kim, Seung Ho Lee, and Jinho Ahn | 2023.07.05 | |
| 353 | Forming gas annealing에 의한 Ru/W interface에서의 산소 거동 연구 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 김성준, 김선용, 박인성, 박영욱, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 352 | 극자외선 펠리클용 나노미터 두께의 대면적 탄화 몰리브데넘 박막 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 김용경, 김현미, 김형근, 김슬기, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 351 | EUV 펠리클 주름이 반사도와 패턴 임계치수에 미치는 영향 연구 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 문승찬, 이동기, 최진혁, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 350 | SiNx passivation layer가 EUV 펠리클 방사 효율에 미치는 영향 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 김원진, 위성주, 김하늘, 강영우, 김정연, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 349 | High-NA EUV용 Pt 기반 마스크 흡수 소재 연구 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 김연수, 정동민, 조민선, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 348 | EUV 펠리클 적용을 위한 ZrSi2 박막 특성 연구 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 강영우, 위성주, 김하늘, 김원진, 김정연, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 347 | EUV 마스크 소재의 굴절계수 및 흡광계수 측정 방법 및 장치 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 이동기, 문승찬, 최진혁, 송석호, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 346 | High-k 소재 기반 high-NA EUV용 마스크 흡수 소재 연구 | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 정동민, 김연수, 조민선, 안진호 | 2023.02.14 | |
| 345 | EUV Lithography | The 30th Korean Conference on Semiconductors | 안진호 | 2023.02.13 | |
| 344 | Effect of forming gas annealing on oxygen behavior at Ru/W interface | 2023 nano convergence conference | Sung Jun Kim, Seon Yong Kim, In-Sung Park, Young Wook Park, and Jinho Ahn | 2023.01.27 | |
| 343 | Experimental demonstration for the effect of EUV pellicle wrinkles on mask imaging performance | 2023 nano convergence conference | Jin Hyuk Choi, Dong Gi Lee, Seung Chan Moon, Seong Ju Wi, and Jinho Ahn | 2023.01.27 | |
| 342 | Effect of SiNx passivation layer on the radiation efficiency of EUV pellicle | 2023 nano convergence conference | Won Jin Kim, Seong Ju Wi, Haneul Kim, Young Woo Kang, Jungyeon Kim, and Jinho Ahn | 2023.01.27 | |
| 341 | Investigation of ZrSi2 for the application to EUV pellicle | 2023 nano convergence conference | Young Woo Kang, Seong Ju Wi, Haneul Kim, Won Jin Kim, Jungyeon Kim, and Jinho Ahn | 2023.01.27 | |
| 340 | Platinum-based alternative EUV mask absorber for the high-NA EUV lithography | 2023 nano convergence conference | Yunsoo Kim, Dongmin Jeong, Minsun Cho, and Jinho Ahn | 2023.01.27 | |
| 339 | Evaluation method for refractive index and extinction coefficient of EUV mask materials | 2023 nano convergence conference | Dong Gi Lee, Seung Chan Moon, Jin Hyuk Choi, Seok Ho Song, and Jinho Ahn | 2023.01.26 | |
| 338 | Novel high-k binary mask for depth of focus and M3D effect control | 2023 nano convergence conference | Dongmin Jeong, Yunsoo Kim, Minsun Cho, and Jinho Ahn | 2023.01.26 | |
| 337 | EUV 펠리클 주름이 M3D effect와 마스크 이미징 성능에 미치는 영향에 대한 실험적 시연 | 2022 차세대 리소그래피 학술대회 | 최진혁, 이동기, 김영웅, 문승찬, 위성주, 안진호 | 2022.08.17 | |
| 336 | EUV 펠리클의 열-기계적 물성이 critical dimension uniformity에 미치는 영향 | 2022 차세대 리소그래피 학술대회 | 강영우, 김정환, 안진호 | 2022.08.17 | |
| 335 | EUV Phase Shift Mask 위상특성 제어를 통한 마스크 이미징 성능 향상 연구 | 2022 차세대 리소그래피 학술대회 | 정동민, 김연수, 조민선, 안진호 | 2022.08.17 | |
| 334 | Electrical Characteristics of 3D P-I-N Structured 1T DRAM | 2022 ISPSA | Yong Tae Kim, Sehyun Kwon, and Jinho Ahn | 2022.07.18 | |
| 333 | Experimental demonstration for the influence of pellicle wrinkles on the mask imaging performance | NANO KOREA 2022 | Jinhyuk Choi, Donggi Lee, Young Woong Kim, Seungchan Moon, Changsoo Kim, and Jinho Ahn | 2022.07.07 | |
| 332 | Effect of diffraction phase control for low-n EUV mask | NANO KOREA 2022 | Minsun Cho, Dongmin Jeong, Yunsoo Kim, and Jinho Ahn | 2022.07.07 | |
| 331 | Fluorine-based dry etch of platinum tungsten alloy for novel EUV mask absorber | NANO KOREA 2022 | Yunsoo Kim, Dongmin Jeong, Minsun Cho, and Jinho Ahn | 2022.07.07 | |
| 330 | Impact of thermomechanical properties of EUV pellicle on image performance | NANO KOREA 2022 | Chang Soo Kim, Jung Hwan Kim, Seong Ju Wi, Ha Neul Kim, Young Woo Kang, Won Jin Kim and Jinho Ahn | 2022.07.07 | |
| 329 | Evaluating optical/thermal properties of single MoSi2 EUV pellicle | NANO KOREA 2022 | Ha Neul Kim, Seong Ju Wi, Chang Soo Kim, Won Jin Kim, and Jinho Ahn | 2022.07.07 | |
| 328 | Effect of wrinkles on EUV pellicle reflectivity and local critical dimension | NANO KOREA 2022 | Dong Gi Lee, Young Woong Kim, Seungchan Moon, Jinhyuk Choi, and Jinho Ahn | 2022.07.06 | |
| 327 | Investigation on the causes of EUV transmittance degradation of EUV pellicle during exposure process | NANO KOREA 2022 | Seong Ju Wi, Ha Neul Kim, Chang Soo Kim, Young Woo Kang, Won Jin Kim, and Jinho Ahn | 2022.07.06 | |
| 326 | EUV Lithography | 차세대 리소그래피 학술대회 단기강좌 | 안진호 | 2022.06.30 | |
| 325 | EUV 펠리클 주름에 의한 반사도 변화와 패턴 임계치수에 미치는 영향 | Spring Conference of KSDT 2022 | 문승찬, 이동기, 김영웅, 최진혁, 안진호 | 2022.05.27 | |
| 324 | 극자외선 노광공정용 마스크의 이미징 성능 향상을 위한 회절광 위상 특성 최적화 연구 | Spring Conference of KSDT 2022 | 정동민, 김연수, 조민선, 안진호 | 2022.05.27 | |
| 323 | 노광 공정 중 EUV 펠리클의 EUV 투과도 저하 원인 연구 | Spring Conference of KSDT 2022 | 위성주, 김하늘, 김창수, 강영우, 김원진, 안진호 | 2022.05.27 | |
| 322 | 회절광의 위상 특성 최적화를 통한 극자외선 노광공정용 마스크 이미징 성능 향상 연구 | The 29th Korean Conference on Semiconductors | 조민선, 정동민, 김득규, 김연수, 안진호 | 2022.01.25 | |
| 321 | EUV 펠리클 주름에 의한 마스크 회절 특성 변화가 마스크 이미지 전사 특성에 미치는 영향 | The 29th Korean Conference on Semiconductors | 이동기, 김영웅, 문승찬, 최진혁, 위성주, 안진호 | 2022.01.25 | |
| 320 | 노광 공정 중 EUV 펠리클의 EUV 투과도 저하 원인 연구 | The 29th Korean Conference on Semiconductors | 위성주, 김하늘, 김창수, 강영우, 김원진, 안진호 | 2022.01.25 | |
| 319 | Validation of single MoSi2 EUV pellicle by optical/mechanical characterization | 2022 nano convergence conference | Wonjin Kim, Seongju Wi, Haneul Kim, and Jinho Ahn | 2022.01.18 | |
| 318 | Impact of residual stress on the deflection of extreme ultraviolet pellicles | 2022 nano convergence conference | Youngwoo Kang, Junghwan Kim, Changsoo Kim, and Jinho Ahn | 2022.01.18 | |
| 317 | Effect of pellicle wrinkles on diffraction properties and the mask imaging performance | 2022 nano convergence conference | Dong Gi Lee, Young Woong Kim, Seungchan Moon, Jin Hyuk Choi, and Jinho Ahn | 2022.01.18 | |
| 316 | EUV Mask Phase optimization for low-n Phase Shift Mask | 2022 nano convergence conference | Dongmin Jeong, Deukgyu Kim, Yunsoo Kim, Minsun Cho, and Jinho Ahn | 2022.01.18 | |
| 315 | Atomic layer etching of TiN with non-greenhouse gas | 2022 nano convergence conference | Seon Yong Kim, In-Sung Park, and Jinho Ahn | 2022.01.18 | |
| 314 | 펠리클 주름에 의한 반사도 변화와 패턴 임계치수에 미치는 영향 연구 | 2021 차세대 리소그래피 학회 | 문승찬, 이동기, 김영웅, 안진호 | 2021.11.17 | |
| 313 | MoSi2 단일막 EUV 펠리클의 광학적/열적 특성 평가 | 2021 차세대 리소그래피 학회 | 김원진, 김정환, 김하늘, 위성주, 안진호 | 2021.11.17 | |
| 312 | 극자외선 펠리클의 처짐에 대한 잔류응력의 영향 | 2021 차세대 리소그래피 학회 | 강영우, 김정환, 위성주, 김하늘, 김창수, 김원진, 안진호 | 2021.11.17 | |
| 311 | 회절광 특성 최적화를 통한 극자외선 노광공정용 마스크 이미징 성능 향상 | 2021 차세대 리소그래피 학회 | 김연수, 정동민, 김득규, 조민선, 안진호 | 2021.11.17 | |
| 310 | Enhancing EUV mask imaging performance through aerial image optimization | NANO KOREA 2021 | 김연수, 정동민, 김득규, 조민선, 안진호 | 2021.07.07 | |
| 309 | Plasma etching of silicon-related materials with non-global warming gas of CF3I for in-situ chamber cleaning | NANO KOREA 2021 | 신상휴, 김선용, 박진성, 심태헌, 박인성, 안진호 | 2021.07.07 | |
| 308 | Evaluating opticalmechanical properties of single MoSi2 EUV pellicle | NANO KOREA 2021 | 김하늘, 장용주, 위성주, 김창수, 안진호 | 2021.07.07 | |
| 307 | Actinic mask imaging using EUV ptychography microscope | NANO KOREA 2021 | 김영웅, 이동기, 구창모, 조중휘, 안진호 | 2021.07.07 | |
| 306 | EUV Lithography | 차세대 리소그래피 학술대회 단기강좌 | 안진호 | 2021.06.24 | |
| 305 | 광학적/열적 특성 평가를 통한 ZrSi2 기반 펠리클 적용 가능성 검증 | 2021 한국반도체디스플레이기술학회 | 김창수, 장용주, 위성주, 김하늘, 안진호 | 2021.05.20 | |
| 304 | 극자외선 노광공정용 마스크 이미징 특성 향상 연구 | 2021 한국반도체디스플레이기술학회 | 김득규, 정동민, 김연수, 조민선, 안진호 | 2021.05.20 | |
| 303 | 극자외선 노광공정용 펠리클의 주름에 의해 증가한 반사도가 마스크 이미징 성능에 미치는 영향 | 2021 한국반도체디스플레이기술학회 | 이동기, 김영웅, 문승찬, 안진호 | 2021.05.20 | |
| 302 | Progress on EUVL mask and pellicle research | The 28th Korean Conference on Semiconductors | Jinho Ahn | 2021.01.27 | |
| 301 | 극자외선 노광공정용 마스크 이미징 특성 향상 연구 | The 28th Korean Conference on Semiconductors | 김득규, 정동민, 한윤종, 김연수, 안진호 | 2021.01.27 | |
| 300 | EUV ptychography microscope를 이용한 actinic 마스크 이미징 연구 | The 28th Korean Conference on Semiconductors | 김영웅, 유병민, 이동기, 구창모, 조중휘, 안진호 | 2021.01.27 | |
| 299 | MoSi2 단일막 펠리클의 열적/광학적 특성 평가 | The 28th Korean Conference on Semiconductors | 김하늘, 장용주, 위성주, 김창수, 안진호 | 2021.01.27 | |
| 298 | 니켈을 활용한 고개구수 극자외선 노광공정용 고흡수도 마스크 연구 | The 28th Korean Conference on Semiconductors | 정동민, 한윤종, 김득규, 김연수, 안진호 | 2021.01.27 | |
| 297 | 파티클로 인한 EUV 펠리클의 열-기계적 거동 변화의 실험적 검증 | The 28th Korean Conference on Semiconductors | 장용주, 위성주, 김하늘, 김창수, 안진호 | 2021.01.27 | |
| 296 | Enabling enhanced EUV mask imaging performance through aerial image optimization | 2021 nano convergence conference | 김연수, 정동민, 한윤종, 김득규, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 295 | Effect of reflected EUV light by the wrinkled pellicle | 2021 nano convergence conference | 이동기, 김영웅, 유병민, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 294 | Fabrication and evaluation of Ni-based high-k mask for high numerical aperture extreme ultraviolet lithography | 2021 nano convergence conference | 정동민, 한윤종, 김득규, 김연수, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 293 | The verification of relationship between resistivity and thermal emissivity of EUV pellicle | 2021 nano convergence conference | 위성주, 장용주, 김하늘, 김창수, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 292 | Actinic mask imaging using EUV ptychography microscope | 2021 nano convergence conference | 김영웅, 유병민, 이동기, 구창모, 조충희, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 291 | Atomic layer etching of SiO2 with non-global warming gas | 2021 nano convergence conference | 김선용, 신상휴, 박인성, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 290 | Investigation of particle impact on thermo-mechanical behavior of EUV pellicle | 2021 nano convergence conference | 장용주, 위성주, 김하늘, 김창수, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 289 | Experimental performance of Z2-FET in matrix structure | 2021 nano convergence conference | 권세현, 김용태, 안진호 | 2021.01.19 | |
| 288 | High-k absorber binary intensity mask using nickel for high numerical aperture extreme ultraviolet lithography | NANO KOREA 2020 | 한윤종, 정동민, 안진호 | 2020.07.01 | |
| 287 | EUV Pellicle defect review using EUV ptychography microscope | NANO KOREA 2020 | 유병민, 우동곤, 김영웅, 장용주, 위성주, 안진호 | 2020.07.01 | |
| 286 | Quasi-atomic layer etching of SIO2 using polymerization of CF3I | NANO KOREA 2020 | 김선용,박인성,안진호 | 2020.07.01 | |
| 285 | Electric Characteristics Of Z2-FET with Positive Feedback Mechanism | The 27th Korean Conference on Semiconductors | Sehyun Kwon, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2020.02.14 | |
| 284 | EUV ptychography microscope를 이용한 through-pellicle 이미징 연구 | The 27th Korean Conference on Semiconductors | 김영웅, 우동곤, 장용주, 위성주, 안진호 | 2020.02.14 | |
| 283 | 니켈 흡수체를 이용한 고개구수 극자외선 노광공정용 마스크 연구 | The 27th Korean Conference on Semiconductors | 한윤종, 정동민, 안진호 | 2020.02.13 | |
| 282 | 백금을 활용한 고개구수 극자외선 노광공정용 위상변위 마스크 연구 | The 27th Korean Conference on Semiconductors | 정동민, 한윤종, 안진호 | 2020.02.13 | |
| 281 | Evaluating optical/thermal properties of MoSi2 EUV pellicle composite | The 27th Korean Conference on Semiconductors | 김하늘, 장용주, 위성주, 유병민, 안진호 | 2020.02.13 | |
| 280 | 열처리에 따른 복합구조체 EUV 펠리클의 열적 특성 평가 | The 27th Korean Conference on Semiconductors | 위성주, 장용주, 김하늘, 안진호 | 2020.02.13 | |
| 279 | 저지구온난화지수를 가진 CF3I를 이용한 SiO2의 Atomic layer etching | The 27th Korean Conference on Semiconductors | 김선용, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2020.02.13 | |
| 278 | 파티클 오염으로 인한 극자외선 노광 기술용 펠리클의 열적 내구성 평가 | The 27th Korean Conference on Semiconductors | Yong Ju Jang, Seong Ju Wi, Ha Neul Kim and Jinho Ahn | 2020.02.13 | |
| 277 | Memory operation of Z2-FET capacitor-less DRAM device | NANO convergence conference 2020 | 권세현, 김용태, 안진호 | 2020.01.16 | |
| 276 | Through-pellicle imaging using EUV ptychography microscope | NANO convergence conference 2020 | 김영웅, 우동곤, 장용주, 위성주, 안진호 | 2020.01.16 | |
| 275 | 니켈을 이용한 고개구수 극자외선 노광공정용 마스크 흡수체 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2019 추계학술대회 | 한윤종, 정동민, 안진호 | 2019.11.19 | |
| 274 | EUV scanning lensless imaging을 이용한 펠리클 검사 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2019 추계학술대회 | 유병민, 우동곤, 김영웅, 장용주, 위성주, 안진호 | 2019.11.19 | |
| 273 | Multilayer absorber phase shift mask using platinum for high numerical aperture extreme ultraviolet lithography | NANO KOREA 2019 | 정동민, 김정식, 공길우, 최민기, 이종화, 안진호 | 2019.07.04 | |
| 272 | Proposal of EUV pellicle composite to improve thermal durability | NANO KOREA 2019 | 위성주, 장용주, 김하늘, 안진호 | 2019.07.04 | |
| 271 | EUV ptychography microscope for evaluation of EUV mask and pellicle | NANO KOREA 2019 | 김영웅, 우동곤, 장용주, 위성주, 신승혁, 김회율, 안진호 | 2019.07.04 | |
| 270 | Reliability of band modulation FET on sub 10nm SOI | NANO KOREA 2019 | 권세현, 최민호, 김용태, 안진호 | 2019.07.03 | |
| 269 | Electrical characteristics of Metal-insulator-metal structure with various ZnO insulator thickness | NANO KOREA 2019 | 이태훈, 정용찬, 성세종, 김선용, 박인성, 안진호 | 2019.07.03 | |
| 268 | EUV Lithography is Here | 한국반도체디스플레이기술학회 2019년 춘계 학술대회 | 안진호 | 2019.05.09 | |
| 267 | SiN 기반 EUV 펠리클 제작을 위한 에칭 공정 최적화 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 신현진, 장용주, 위성주, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 266 | 다층박막형 흡수체 구조를 사용한 극자외선 노광공정용 위상변위 마스크 연구 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 정동민, 김정식, 이종화, 최민기, 공길우, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 265 | 탄소 계열 보강층이 포함된 복합구조체 EUV 펠리클의 특성 평가 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 위성주, 장용주, 김하늘, 신현진, 우동곤, 김영웅, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 264 | Coherent Scattering Microscope를 이용한 EUV 펠리클의 광학적 특성 평가 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 김영웅, 우동곤, 장용주, 위성주, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 263 | 원자층증착법 기술의 광촉매 나노재료 합성 적용과 그 응용 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 성세종, 정용찬, 이태훈, 김선용, 박인성, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 262 | ZnO 절연체의 두께에 따른 Metal-Insulator-Metal 소자의 특성 변화 관찰 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 이태훈, 정용찬, 성세종, 김선용, 박인성, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 261 | 열적 내구성 향상을 위한 복합구조체 펠리클 구조 제안 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 장용주, 위성주, 신현진, 김하늘, 안진호 | 2019.02.15 | |
| 260 | La(NO3)3·6H2O 용액을 산화제로 이용한 HfO2 박막의 미세 구조 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 김선용, 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2019.02.14 | |
| 259 | Characteristics of Band Modulation FET | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 권세현, 최민호, 박인성, 김용태, 안진호 | 2019.02.14 | |
| 258 | Performance and Applications of EUV Scanning Lensless Imaging(ESLI) | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 우동곤, 김영웅, 장용주, 위성주, 안진호 | 2019.02.14 | |
| 257 | 고 개구수 극자외선 노광공정용 위상변위 마스크 제작 및 성능 평가 | The 26th Korean Conference on Semiconductors | 김정식, 정동민, 이종화, 최민기, 공길우, 안진호 | 2019.02.14 | |
| 256 | Fast atomic layer deposition with La(NO3)3·6H2O solution oxidant | NANO convergence conference 2019 | Seon Yong Kim, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Taehoon Lee, In-Sung Park, and Jinho Ahn | 2019.01.18 | |
| 255 | Fast atomic layer deposition with La(NO3)3·6H2O solution oxidant | NANO convergence conference 2019 | Seon Yong Kim, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Taehoon Lee, In-Sung Park, and Jinho Ahn | 2019.01.18 | |
| 254 | Optical, structural, and device characteristics of ZnO films with thickness variation | NANO convergence conference 2019 | Taehoon Lee, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Seon Yong Kim, In-Sung Park, and Jinho Ahn | 2019.01.18 | |
| 253 | Memory operation of band modulation FET | NANO convergence conference 2019 | Sehyun Kwon, Minho Choi, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2019.01.17 | |
| 252 | Fabrication of Fe3O4-ZnO Core-Shell Nanoparticles and its Application for Drug Delivery | NANO convergence conference 2019 | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, Seon Yong Kim, In-Sung Park, Su-Jae Lee, and Jinho Ahn | 2019.01.17 | |
| 251 | 다층박막형 흡수체 구조를 사용한 극자외선 노광공정용 위상변위 마스크 연구 | 2018 Conference on Next Generation Lithography | 정동민, 김정식, 이종화, 최민기, 공길우, 안진호 | 2018.08.21 | |
| 250 | 결맞음성 회절 현미경을 이용한 EUV 마스크의 through-pellicle metrology 연구 | 2018 Conference on Next Generation Lithography | 김영웅, 안진호, 우동곤, 장용주, 위성주 | 2018.08.21 | |
| 249 | 탄소계열 보강층이 포함된 복합구조체 EUV 펠리클의 기계적, 열적 특성 평가 | 2018 Conference on Next Generation Lithography | 위성주, 김정식, 우동곤, 김영웅, 안진호 | 2018.08.21 | |
| 248 | Development of EUV - ptychography microscope : EUV scanning lensless imaging (ESLI) | 2018 Conference on Next Generation Lithography | 우동곤, 신승혁, 김영웅, 김회율, 안진호 | 2018.08.21 | |
| 247 | 백금을 활용한 고 개구수 극자외선 노광공정용 위상변위 마스크 제작 및 성능 평가 | 2018 Conference on Next Generation Lithography | 김정식, 정동민, 이종화, 최민기, 공길우, 안진호 | 2018.08.21 | |
| 246 | Evaluating thermal stability of EUV pellicle composite depending on membrane materials and structure | 2018 Conference on Next Generation Lithography | 장용주, 위성주, 우동곤, 김영웅, 안진호 | 2018.08.21 | |
| 245 | Enhanced photocatalytic Ag/ZnO core/shell nanoparticles fabricated by atomic layer deposition | NANO KOREA 2018 | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, Seon Yong Kim, In-Sung Park and Jinho Ahn | 2018.07.12 | |
| 244 | Memory operation of capacitor-less 1T-DRAM | NANO KOREA 2018 | Sehyun Kwon, Minho Choi, Yong Tae Kim, Francisco Gamiz and Jinho Ahn | 2018.07.12 | |
| 243 | Proposal of EUV pellicle composite to enhance thermal durability | NANO KOREA 2018 | Yong Ju Jang, Sung Ju Wi and Jinho Ahn | 2018.07.11 | |
| 242 | Enhanced luminous efficacy of 2-dimensonal photonic crystal layers using various metal oxide nanoparticles on Y2O3:Eu3+ TFPs. | NANO KOREA 2018 | Hyojun Kim, Ha Neul Kim, In-Sung Park, Ki-Young Ko and Jinho Ahn | 2018.07.11 | |
| 241 | Uniform optical and electrical improvement of IGZO thin films using large-area anneal system | NANO KOREA 2018 | Taehoon Lee, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Seon Yong Kim, In-Sung Park and Jinho Ahn | 2018.07.11 | |
| 240 | Oxidant effect of La(NO3)3·6H2O solution on the HfO2 thin films grown by atomic layer deposition | NANO KOREA 2018 | Seon Yong Kim, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Taehoon Lee, In-Sung Park and Jinho Ahn | 2018.07.11 | |
| 239 | The EUV pellicle qualification through optical evaluation of pellicle using EUV scanning lensless imaging (ESLI) | NANO KOREA 2018 | Young Woong Kim, Dong Gon Woo, Seunghyeok Shin, Whoi-Yul Kim and Jinho Ahn | 2018.07.11 | |
| 238 | Electrical characteristics of nano SOI FET for 1 transistor memory | The 19th International Symposium on the Physics of Semiconductor and Applications | Sehyun Kwon, Jinho Ahn, Francisco Gamiz, Sorin Cristoloveanu, and Yong Tae Kim | 2018.07.05 | |
| 237 | La(NO3)3∙6H2O 용액을 이용하여 ALD 법으로 증착한 HfO2 박막의 특성 | 한국반도체디스플레이기술학회 2018년 춘계학술대회 | 김선용, 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2018.04.20 | |
| 236 | EUV Scanning Lensless Imaging (ESLI) 기술을 이용한 EUV 펠리클 Qualification 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2018년 춘계학술대회 | 김영웅, 우동곤, 신승혁, 김회율, 안진호 | 2018.04.20 | |
| 235 | Y3Al5O12:Ce3+ (YAG:Ce3+)형광판 위 은 나노 입자를 포함한 이차원 광 결정 형성하여 백색 발광 다이오드 발광 효율 개선 | The 25th Korean Conference on Semiconductors | 김효준, 박인성, 고기영, 안진호 | 2018.02.08 | |
| 234 | Development of novel EUV actinic inspection technique: EUV Scanning Lensless Imaging (ESLI) | The 25th Korean Conference on Semiconductors | 우동곤, 김영웅, 김정환, 신승혁, 김회율, 안진호 | 2018.02.08 | |
| 233 | The improvement of inspection stability of coherent scattering microscope | The 25th Korean Conference on Semiconductors | 김영웅, 우동곤, 안진호 | 2018.02.07 | |
| 232 | Bulge test를 이용한 EUV 펠리클 박막의 기계적 특성 평가 | The 25th Korean Conference on Semiconductors | Seong Ju Wi, Yong Ju Jang, Ki Seong Lee, Seung Min Han, Seong In Kim and Jinho Ahn | 2018.02.07 | |
| 231 | Thermal property analysis of EUV pellicle membrane | The 25th Korean Conference on Semiconductors | Yong Ju Jang, Seong Ju Wi and Jinho Ahn | 2018.02.07 | |
| 230 | Capacitorless 1T-DRAM Device | The 25th Korean Conference on Semiconductors | Sehyun Kwon, Minho Choi, In-Sung Park, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2018.02.07 | |
| 229 | Improvement of ZnO Resistivie switching Devices by Metal Thin Layer on ITO Electrode for Transparent Devices | The 25th Korean Conference on Semiconductors | Taehoon Lee, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Seon Yong Kim, In-Sung Park and Jinho Ahn | 2018.02.07 | |
| 228 | Fabrication of Ag/ZnO Core/Shell Nanoparticles by Rotational Atomic Layer Deposition and Their Enhanced Photocatalytic Properties | The 25th Korean Conference on Semiconductors | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, Seon Yong Kim, In-Sung Park and Jinho Ahn | 2018.02.07 | |
| 227 | Atomic Layer Deposition of HfO2 Films Using La(NO3)3∙6H2O Solution for Oxidant | The 25th Korean Conference on Semiconductors | Seon Yong Kim, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Taehoon Lee, In-Sung Park and Jinho Ahn | 2018.02.06 | |
| 226 | Development of EUV actinic inspection technique: EUV scanning lensless imaging (ESLI) | NANO KOREA 2017 | 우동곤, 김영웅, 신승혁, 김회율, 안진호 | 2017.07.14 | |
| 225 | Development of EUV actinic inspection technique: EUV scanning lensless imaging (ESLI) | 2017 차세대리소그래피 학술대회 | 우동곤, 김영웅, 김정환, 신승혁, 김회율, 안진호 | 2017.07.14 | |
| 224 | Improved inspection stability of coherent scattering microscopy | NANO KOREA 2017 | Young Woong Kim, Dong Gon Woo and Jinho Ahn | 2017.07.13 | |
| 223 | Mechanical and optical properties of graphene composite EUV pellicle | NANO KOREA 2017 | Yong Ju Jang, Jung Hwan Kim and Jinho Ahn | 2017.07.13 | |
| 222 | Using platinum for absorber stack of attenuated phase shift mask in high-numerical aperture EUVL | NANO KOREA 2017 | Jung Sik Kim, Dong Gon Woo, and Jinho Ahn | 2017.07.12 | |
| 221 | Characterization of SiN-based membrane for EUV pellicle application | 2017 차세대리소그래피 학술대회 | Yong Ju Jang, Jung Hwan Kim and Jinho Ahn | 2017.07.12 | |
| 220 | Study of a phase shift mask using platinum group metal in high NA EUV lithography | 2017 차세대리소그래피 학술대회 | Jung Sik Kim, Dong Gon Woo, and Jinho Ahn | 2017.07.10 | |
| 219 | Y2O3:Eu3+ 박막형광체 위 유⋅무기 하이브리드 나노재료를 포함하는 2차원 나노구조체 전사를 통한 발광 효율 향상 연구 | 2017 차세대리소그래피 학술대회 | 김효준, 고기영, 박인성, 안진호 | 2017.07.10 | |
| 218 | Mechanism of capacitorless 1T-Memory | 한국반도체디스플레이기술학회 2017년 춘계학술대회 | 권세현, 김춘근, 김용태, Sorin Cristoloveanu, 안진호 | 2017.04.27 | |
| 217 | 결맞음성 회절 현미경의 검사 안정성 개선 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2017년 춘계학술대회 | 김영웅, 우동곤, 김정환, 안진호 | 2017.04.27 | |
| 216 | Graphene을 포함한 복합구조체 EUV 펠리클의 광학적, 기계적 특성 분석 | 한국반도체디스플레이기술학회 2017년 춘계학술대회 | Yong Ju Jang, Jung Hwan Kim and Jinho Ahn | 2017.04.27 | |
| 215 | 이미징 성능을 향상시키는 고 개구수 EUV 위상변위 마스크 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2017년 춘계학술대회 | 김정식, 우동곤, 안진호 | 2017.04.27 | |
| 214 | Enhanced optical properties by quasicrystal patterned on a Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors | 한국반도체디스플레이기술학회 2017년 춘계학술대회 | 김효준, 박인성, 고기영, 안진호 | 2017.04.27 | |
| 213 | 금속 나노 박막을 이용한 ITO 전극 위의 ZnO 박막의 저항 스위칭 특성 향상 | 한국반도체디스플레이기술학회 2017년 춘계학술대회 | 이태훈, 정용찬, 성세종, 이박, 김선용, 박인성, 안진호 | 2017.04.27 | |
| 212 | EUV 마스크 검사를 위한 EUV scanning lensless imaging 기술 개발 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | 우동곤, 김정환, 홍성철, 신승혁, 김회율, 안진호 | 2017.02.15 | |
| 211 | Surface Smoothness Improvement of Atomic Layer deposited HfO2 Film via Inserting Al2O3 Thin Film with Layer-by-Layer | The 24th Korean Conference on Semiconductors | Bo Li, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Taehoon Lee, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2017.02.15 | |
| 210 | 진공 열처리를 통한 ITO 투명 전도성 산화물 박막의 특성 향상에 대한 연구 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, Bo Li, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2017.02.14 | |
| 209 | Thermal Budget이 향상된 열처리 시스템을 이용한 IGZO 박막의 열처리 특성 비교 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | Taehoon Lee, Yong Chan Jung, Sejong Seong, Bo Li, In-sung Park, and Jinho Ahn | 2017.02.14 | |
| 208 | 새로운 대면적 열처리 시스템을 이용한 비정질 실리콘의 균일한 탈수소화에 관한 연구 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 김태현, 여원재, 안진호 | 2017.02.14 | |
| 207 | Design of In3SbTe2 phase-change material with local distortion for memory and neuromorphic system | The 24th Korean Conference on Semiconductors | Minho Choi, Heechae Choi, Seungchul Kim, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2017.02.14 | |
| 206 | 이미징 퍼포먼스를 향상 시키는 high-NA 시스템용 EUV PSM 연구 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | 김정식, 홍성철, 장용주, 안진호 | 2017.02.14 | |
| 205 | 그래핀을 포함한 복합구조체 EUV 펠리클의 광학적, 기계적 특성 분석 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | Yong Ju Jang, Jung Hwan Kim, Seongchul Hong and Jinho Ahn | 2017.02.14 | |
| 204 | 결맞음성 회절 현미경의 검사 안정성 개선 연구 | The 24th Korean Conference on Semiconductors | 김영웅, 우동곤, 김정환, 안진호 | 2017.02.14 | |
| 203 | Material Design of Phase-change Memory by Controlling Vacancy and Distortion with Dopants | 대한금속재료학회 2016 추계학술대회 | Minho Choi, Heechae Choi, Seungchul Kim, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2016.10.27 | |
| 202 | Resistive switching characteristics in HfO2 and Y2O3 based atomic layer depostion grown Metal/Insulator/Metal devices | 대한금속재료학회 2016 추계학술대회 | Yong Chan Jung, Sejong Seong, Taehoon Lee, Bo Li, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2016.10.27 | |
| 201 | Thermal Vacuum Annealing Effects on ITO Thin Films | The 15th International Symposium on Microelectronics and Packaging | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2016.10.26 | |
| 200 | Characteristics of IGZO Thin Films Treated by Thermal Vacuum Annealing | The 15th International Symposium on Microelectronics and Packaging | Taehoon Lee, Yong Chan Jung, Sejong Seong, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2016.10.25 | |
| 199 | Feasibility study on graphene-embedded EUV pellicle | ICMAP 2016 | 김지은, 김정환, 장용주, 김영웅, 안진호 | 2016.09.27 | |
| 198 | Optical properties of quasicrystal patterned Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors by nanosphere lithography | ICMAP 2016 | Hyojun Kim, In-Sung Park, Ki-Young Ko and Jinho Ahn | 2016.09.27 | |
| 197 | Improved photoluminescence intensity of double-side patterned Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors by reverse nano-imprint lithography | Nanokorea 2016 | Hyojun Kim, In-Sung Park, Ki-Young Ko, and Jinho Ahn | 2016.07.14 | |
| 196 | Effect of Vacancy and Distortion on Fast Transition in Bi-doped In3SbTe2 | 2016 대한금속학회 Spring | Minho Choi, Heechae Choi, Seungchul Kim, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2016.04.28 | |
| 195 | EUV 마스크 및 펠리클 검사를 위한 ptychography 개발 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 우동곤, 홍성철, 조훈, 김회율, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 194 | Graphene을 포함한 복합구조체 EUV 펠리클의 광학적, 기계적 특성 분석 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 장용주, 김지은, 김정환, 홍성철, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 193 | EUV 펠리클 가속도 안정성 확인을 위한 스핀코터 활용가능성 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 김지은, 김정환, 홍성철, 장용주, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 192 | 극자외선 리소그래피 high-NA용 half-tone 위상변위마스크 구조 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 장용주, 김정식, 홍성철, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 191 | Beyond EUV lithography를 위한 다층 박막 미러 구조 제시 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 우동곤, 김정식, 김정환, 홍성철, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 190 | 극자외선 노광공정용 펠리클의 투과도에 따른 이미징 특성 분석 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 김정환, 김지은, 홍성철, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 189 | 실리콘 나이트라이드 박막 기반의 펠리클 제작 플랫폼 개발 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 김지은, 김정환, 홍성철, 장용주, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 188 | 물중탕 식각 공정을 이용한 대면적 실리콘 나이트라이드 극자외선 노광공정용 펠리클 제작 | 반도체 디스플레이 춘계 학술대회 | 김정환, 김지은, 홍성철, 안진호 | 2016.04.21 | |
| 187 | 스핀코터를 이용한 EUV 펠리클의 기게적 안정성 평가 설계 | 제 5회 차세대리소그래피학술대회 | 김지은 김정환, 조한구, 안진호 | 2016.04.08 | |
| 186 | SRAF가 존재하는 극자외선 위상변위 마스크의 이미징 특성 측정 | 제 5회 차세대리소그래피학술대회 | 장용주, 김정식, 홍성철, 조한구, 안진호 | 2016.04.08 | |
| 185 | 극자외선 노광공정용 펠리클의 투과도에 따른 이미징 특성 분석 | 제 5회 차세대리소그래피학술대회 | 김정환, 김지은, 장용주, 우동곤, 조한구, 안진호 | 2016.04.07 | |
| 184 | Improved optical properties Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors assisted by quasicrystal 2D PCL structures | 제 5회 차세대리소그래피학술대회 | Hyojun Kim, In-Sung Park, Ki-Young Ko, and Jinho Ahn | 2016.04.07 | |
| 183 | 검사광원 및 이미지 위치정보 보상을 통한 EUV 타이코그라피 이미지 재구성 정확도 개선 | 제 5회 차세대리소그래피학술대회 | 우동곤, 홍성철, 조훈, 김회율, 조한구, 안진호 | 2016.04.07 | |
| 182 | 습식 식각 공정을 이용한 EUV 펠리클용 실리콘 나이트라이드 멤브레인 제작 | 제 5회 차세대리소그래피학술대회 | 정성훈, 김정환, 김지은, 조한구, 안진호 | 2016.04.07 | |
| 181 | Influence of forming gas annealing to Pt/HfO2/Pt resistors on resistive switching characteristics | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2016.02.23 | |
| 180 | The resistive switching characteristics of transparent Al/ZnO/ITO/PET resistor with IPL treatment | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2016.02.23 | |
| 179 | The effects of rotary reactor with wave bumps in atomic layer deposition: its application to the fabrication of core/shell nano-particles | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | Sejong Seong, Yong Chan Jung, Taehoon Lee, In-Sung Park, Jinho Ahn | 2016.02.23 | |
| 178 | 노광량과 주 패턴의 선폭 바이어스를 통한 SRAF가 적용된 EUV용 마스크의 공정 허용도 최적화 | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | 장용주, 김정식, 홍성철, 조한구, 안진호 | 2016.02.23 | |
| 177 | Improvement on operation speed of In3SbTe2 (IST-312) phase-change material by Bi doping | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | Minho Choi, Heechae Choi, Seungchul Kim, Yong Tae Kim, and Jinho Ahn | 2016.02.23 | |
| 176 | Effective optical properties of multi pitch patterned Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | Hyojun Kim, In-Sung Park, Ki-Young Ko, and Jinho Ahn | 2016.02.23 | |
| 175 | 대면적 고속화 EUV 마스크 검사를 위한 ptychography 알고리즘 연구 | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | 우동곤, 이승민, 홍성철, 조한구, 안진호 | 2016.02.23 | |
| 174 | 고투과도 SiNx EUV용 펠리클 제작을 위한 HF thinning 공정 가능성 평가 | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | 김지은, 김정환, 홍성철, 조한구, 안진호 | 2016.02.23 | |
| 173 | EUV용 펠리클 대안구조로서 그래핀 복합구조 가능성 연구 | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | 김정환, 홍성철, 조한구, 안진호 | 2016.02.23 | |
| 172 | EUV용 PSM을 통한 SRAF 적용 마진 및 노광공정 마진 향상 연구 | 제 23회 한국 반도체 학술대회 | 김정식, 홍성철, 장용주, 조한구, 안진호 | 2016.02.23 | |
| 171 | Fabrication and Analysis of Bio-applicable Core/Shell Nano-composites using Atomic Layer Deposition | 2015 INST Symposium | 성세종, 정용찬, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2015.06.30 | |
| 170 | Resistive Switching of Atomic Layer Deposition grown Metal/Insulator/Metal devices | 2015 INST Symposium | 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2015.06.30 | |
| 169 | Enhanced light extraction efficiency of double-side patterned Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors by reverse nano-imprint lithography | IFFM | 김효준, 박철균, 고기영, 안진호 | 2015.06.26 | |
| 168 | 다양한 패턴에 대한 EUV-CSM의 이미징 최적화와 | 제4회 차세대리소그래피학술대회 | 이승민, 이재욱, 홍성철, 김정식, 김정환, 송현민, 안진호 | 2015.04.03 | |
| 167 | 극자외선 노광 공정용 half-tone 위상 변위 마스크 제작 공정 시 absorber stack의 sidewall angle의 영향 | 제4회 차세대리소그래피학술대회 | 송현민, 이재욱, 홍성철, 이승민, 김정식, 김정환, 안진호 | 2015.04.01 | |
| 166 | EUV resist underlayer의 광학적 특성이 이미징에 미치는 영향 | 제4회 차세대리소그래피학술대회 | 김정식, 홍성철, 이재욱, 이승민, 김정환, 송현민, 안진호 | 2015.04.01 | |
| 165 | SiNx 단일막을 이용한 EUV 펠리클 멤브레인의 기계적/광학적 특성 분석 | 제4회 차세대리소그래피학술대회 | 김정환, 이재욱, 홍성철, 이승민, 김정식, 송현민, 박진구, 오혜근, 안진호 | 2015.04.01 | |
| 164 | Electrode Dependent Interfacial Layer Scavenging and Characteristics Variation | 제22회 한국반도체학술대회 | 이태훈, 성세종, 정용찬, 박인성, 이성보, 안진호 | 2015.02.11 | |
| 163 | Wet etching process를 통한 free standing pellicle membrane | 제22회 한국반도체학술대회 | 김정환, 홍성철, 이재욱, 이승민, 김정식, 송현민, 안진호 | 2015.02.11 | |
| 162 | Hybrid Input-Output (HIO) 알고리즘을 사용한 마스크 패턴의 이미지 재구성 연구 | 제22회 한국반도체학술대회 | 이승민, 이재욱, 홍성철, 김정식, 김정환, 송현민, 안진호 | 2015.02.11 | |
| 161 | Intermediate phase transition of Ge2Sb2Te5 during melt-quenching process | 2014 NVMTS (The 14th Non-Volatile Memory Technology Symposium) | Minho Choi, Jinho Ahn, Young Hwan Kim, and Yong Tae Kim | 2014.10.28 | |
| 160 | 전극에 따른 계면 스캐빈징 특성 변화 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2014년 춘계학술대회 | 이태훈, 성세종, 정용찬, 박인성, 안진호 | 2014.06.05 | |
| 159 | 원자층증착법을 이용한 코어 / 쉘 나노입자 제조 방법과 특성 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2014년 춘계학술대회 | 성세종, 정용찬, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2014.06.05 | |
| 158 | Metal / Insulator / Metal 구조의 저항기에서 상 / 하부 전극의 차이에 따른 스위칭 특성 연구 | 한국반도체디스플레이기술학회 2014년 춘계학술대회 | 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 안진호 | 2014.06.05 | |
| 157 | Imaging performance of phase shift mask using coherent scattering microscopy | 제3회 차세대 리소그래피 학술대회 | 이승민, 안진호 | 2014.04.10 | |
| 156 | 극자외선 리소그래피 high-NA용 half-tone 위상변위마스크 구조 | 제3회 차세대 리소그래피 학술대회 | 김정식, 홍성철, 이재욱, 이승민, 김정환, 송현민, 안진호 | 2014.04.10 | |
| 155 | Numerous Challenges of EUV Lithography | 제3회 차세대 리소그래피 학술대회 | 안진호 | 2014.02.25 | |
| 154 | Ge 기판의 S처리를 이용한 Charge-Trapping Type 소자의 메모리 특성연구 | 제 21회 한국반도체 학술대회 | 이명완, 정용찬, 성세종, 박인성, 안진호 | 2014.02.25 | |
| 153 | Estimating Electrical and Optical Properties of 1D Metal Grid Transparent Electrode on SiO2 Substrate | 제 21회 한국반도체 학술대회 | 이길복, 안진호 | 2014.02.25 | |
| 152 | The speed improvement of In3SbTe2 phase change material by doping Bi element | 제 21회 한국반도체 학술대회 | 최민호, 김용태, 안진호 | 2014.02.25 | |
| 151 | C/H pattern의 photon shot noise effect 정량화를 위한 stochastic simulation | 제 21회 한국반도체 학술대회 | 김정식, 홍성철, 이승민, 정시준, 이재욱, 안진호 | 2014.02.25 | |
| 150 | The suggestion of half-tone phase-shift mask for high-NA EUVL | 제 21회 한국반도체 학술대회 | 최민호, 김용태, 안진호 | 2014.02.25 | |
| 149 | Study of Etching properties of Nickel Absorber for EUV mask | 제 21회 한국반도체 학술대회 | 김정식, 홍성철, 이승민, 정시준, 이재욱, 안진호 | 2014.02.25 | |
| 148 | 2D ZrO2 nanoparticle photonic crystal double side coated Y3AI5O12:Ce3+ phosphor plate for white light emitting diodes | 제3회 나노 임프린트, 몰딩, 프린트 학술대회 | 박철균, 고기영, 이헌, 안진호 | 2014.02.13 | |
| 147 | 디스플레이 백플레인용 노광장치에서 해상력 향상을 위한 Rim Type Phase Shift Mask 시뮬레이션 평가 | 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) | 김종석, 정시준, 김정식, 이재욱, 홍성철, 이승민, 안진호 | 2013.10.25 | |
| 146 | 2차원 광결정 구조에 따른 박막 형광체의 발광 효율 비교 | 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) | 박철균, 김기강, 안진호 | 2013.10.25 | |
| 145 | In3SbTe2(IST) 상변화 물질 내 Bi 도핑에 의한 특성 변화 연구 | 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) | 최민호, 안진호 | 2013.10.25 | |
| 144 | 높은 개구율을 갖는 은과 알루미늄 1차원 그리드의 투명전극으로서의 광투와 연구 | 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) | 이길복, 안진호 | 2013.10.25 | |
| 143 | 회절광 현미경을 이용한 극자외선 마스크 계측 및 검사 | 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) | 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호 | 2013.10.25 | |
| 142 | X선 반사율 측정법을 이용한 극자외선 리소그래피용 마스크 구조체 물질의 광학상수계산 | 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 | 이승민, 이재욱, 홍성철, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호, 황보창권 | 2013.04.12 | |
| 141 | 위상복원 알고리즘을 이용한 EUV 마스크의 이미징 영향분석 | 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 | 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호 | 2013.04.12 | |
| 140 | 극자외선 리소그래피용 포톤샷 노이즈 감소를 위한 감쇠형 위상변위 마스크 | 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 | 홍성철, 이재욱, 이승민, 정시준, 김종석,김정식, 안진호 | 2013.04.12 | |
| 139 | G,H,I선 복합파장 노광기에서 위상변이 마스크를 사용한 해상력 향상에 관한 연구 | 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 | 김종석, 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김정식, 안진호 | 2013.04.12 | |
| 138 | The measurement and image reconstruction of EUV mask using coherent scattering microscopy | 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 | 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호 | 2013.04.11 | |
| 137 | The Fabrication and Evaluation of Attenuated Phase Shift Mask for EUV Lithography | 제 20회 한국반도체 학술대회 | 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 안진호 | 2013.02.06 | |
| 136 | Beyond EUV Lithography용 다층박막 물질 평가 | 제 20회 한국반도체 학술대회 | 홍성철, 정시준, 이재욱, 이승민, 성세종, 안진호 | 2013.02.05 | |
| 135 | Enhanced light extraction from red phosphor films via nano-imprint lithography using zirconia nanoparticles | 25th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2012) | KiKang Kim | 2012.11.01 | |
| 134 | Microstructures of HfO2 thin films on Si and Ge evaluated using small angle neutron scattering | International Union of Materials Research Socities-International Conference in Asia 2012 (IUMRS-ICA 2012) | Tae-Gyu Shin, Baek-Seok Seong, Kyoung-min Ryu, YongChan Jung, Jinho Ahn, and In-Sung Park | 2012.08.28 | |
| 133 | 극자외선 리소그래피 용 얇은 하프톤 위상천이마스크 구조의 제시 | 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 | 홍성철,이상설,도종걸,이재욱 | 2012.02.10 | |
| 132 | 극자외선 리소그라피 마스크의 새로운 흡수체물질 평가 | 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 | 이재욱,이상설,도종걸,홍성철 | 2012.02.10 | |
| 131 | Coherent Scattering Microscope for EUV mask | 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 | 2012.02.10 | ||
| 130 | 크기가 다른 나노스피어를 이용한 나노스피어 리소그래피 | 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 | 이길복 | 2012.02.09 | |
| 129 | Integration of Coherent Scattering Microscope for EUV mask | The 23rd Synchrotron Radiation User's Workshop & KOSUA Meeting | 이재욱,도종걸,이상설 | 2011.11.17 | |
| 128 | Fabrication of 2D Photonic Crystal Layers by Reversal Nanoimprint of TiO2 Nanoparticles and Atomic Layer Deposition | International Conference on Advanced Electromaterials (ICAE 2011) | 허은진,이길복,최윤식 | 2011.11.10 | |
| 127 | Fabrication of 2D Metal Oxide (SiO2, Al2O3, TiO2) Nanoparticles Patterns by Nanoimprint Lithography | International Conference on Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment(ENGE2011) | 허은진,이길복,최윤식 | 2011.10.28 | |
| 126 | NWFET-type biosensor with a microfluidic device for detecting charged molecules | 2011 한국물리학회 | CHOI Minho, PARK Sang-Won, HWANG Yeong-Hyeon, CHO Won-Ju, AHN Jinho, KIM Yong Tae | 2011.10.20 | |
| 125 | Integration of Stand-Alone Coherent Scattering Microscope with FemtoSecond Laser based EUV source | 2011 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography | Jae Uk Lee, Seong Chul Hong, Sangsul Lee, Jonggul Do and Jinho Ahn | 2011.10.18 | |
| 124 | Fabrication of 2D metal oxide patterns from nanoparticle (SiO2, Al2O3, TiO2) by direct nanoimprint lithography | 제 108회 대한화학회 학술발표회 | 허은진 | 2011.09.29 | |
| 123 | Fabrication of 2D TiO2 nanoholes from TiO2 nanoparticles by nanoimprint method | 제 107회 대한화학회 | 허은진,최윤식 | 2011.04.28 | |
| 122 | Optimization of thin half-tone phase shift mask stack for Extreme Ultraviolet Lithography | 2011년도 대한금속 재료학회 춘계학술대회 | 이재욱,정창영,도종걸,이상설 | 2011.04.22 | |
| 121 | Process development for high aspect ratio patterns with combined imprint techniques | 정창영, 심규현, 도종걸 | 제18회 반도체학술대회 | 2011.02.17 | |
| 120 | Dielectric and Metal Electrode Effects on Metal-Insulator-Metal Capacitor for Radio Frequency and Analog/Mixed-Siganl Integrated Circuits | 제20회 유전체물성 심포지엄 & 제 12회 강유전체 소자 / 소재 워크숍 | 류경민 | 2011.02.14 | |
| 119 | Oxygen pressure effect on optical properties of reactively sputtered ZnO thin films | 제20회 유전체물성 심포지엄 & 제 12회 강유전체 소자 / 소재 워크숍 | 박정혁 | 2011.02.14 | |
| 118 | 금속-절연체 상전이 이산화바나듐 박막의 형성 및 광학적 특성 | 2010년도 한국재료학회 | 박승준, 권순우, 안진호, 윤대호, 이한영, 양우석 | 2010.05.01 | |
| 117 | Enhanced Interface and Bulk Properties of HfO2 Film at Metal-Insulator-Ge Capacitors | 제17회 한국반도체학술대회 | 최영재, 고기영, 박인성, 안진호 | 2010.02.01 | |
| 116 | development of Mask Contamination/Inspection System for Extreme Ultra Violet Lithography | 제17회 한국반도체학술대회 | 이상설, 정창영, 신현덕, 도종걸, 이동근, 김성수, 조한구, 나승유, 안진호 | 2010.02.01 | |
| 115 | Electrical Characteristics of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with High Mobolity Substrates | 제16회 한국반도체학술대회 | 2009 | ||
| 114 | The Study of Bi-Layer ArF Phase Shift mask for High Transmittance Material | 제16회 한국반도체학술대회 | 2009 | ||
| 113 | Overview of Infrastructure for EUV Lithography | 제20차 방사광이용자연구발표회 | 2008 | ||
| 112 | The development status of EUVL test bed at PAL 11B beamline | 제20차 방사광이용자연구발표회 | 2008 | ||
| 111 | Resistance switching characteristics of HfO2 thin film with voltage pulse mode operation | 2008년도 대한금속, 재료학회 추계 학술대회 | 2008 | ||
| 110 | Electrical characteristics of atomic layer deposition HfO2 High-k dielectric layer on Ge substrate | 2008년도 대한금속, 재료학회 추계 학술대회 | 2008 | ||
| 109 | 반사 광학을 이용한 극자외선 노광기술 | 2008 금속재료학회 | 2008 | ||
| 108 | Development of attenuated PSM mask for extreme ultra violet lithography with minmized mask shadowing effect | 제15회 반도체 학술대회 | 2008 | ||
| 107 | Out-gassing study of EUV resist | 제15회 반도체 학술대회 | 2008 | ||
| 106 | Characteristics of Phase Shift Mask for Extreme Ultraviolet Lithography | 14회 반도체 학술대회 | 2007 | ||
| 105 | Resistives switching characteristics of binary oxides | 13회 반도체학술대회 | 2006 | ||
| 104 | The Absober ShapeDependencyofPatternPrintabilityforExtremeUltraviolet Lithography(EUVL) | 13회 반도체학술대회 | 2006 | ||
| 103 | Femtosecond Laser Interference Structuring of Amorphous Silicon by TiO2 Phase Grating Fabricated Using Lift-off Technique | 13회 반도체학술대회 | 2006 | ||
| 102 | study of a thin Al2O3 / TaN absorber stack on Ru-capped multilayers | 13회 반도체학술대회 | 2006 | ||
| 101 | Mo 전극을 이용한 HfO2 MOS capacitor 의 전기적 특성과 신뢰성 | 13회 반도체학술대회 | 2006 | ||
| 100 | Fabrication of optimized absorber stack on Ru capped multilayer | 2006 금속재료학회 | 2006 | ||
| 99 | 극자외선 노광공정용 반사 다층박막의 capping layer 특성분석 | 2006 금속재료학회 | 2006 | ||
| 98 | Resistive Switching Characteristies of HfO2 Deposited by Atomic Layer Deposition | 15회 강유전체 연합 심포지업 | 2006 | ||
| 97 | Metal precursor effect on deposition and interfacial characteristies of HfO2 dielectries grown by atomic layer deposition | 15회 강유전체 연합 심포지업 | 2006 | ||
| 96 | Nano-structure fabrication without etching process using PDMS transcription method | 2005 추계 IMAPS, 한양대학교 | 2005 | ||
| 95 | 비점착성 SiO2 층을 이용한 나노임프린트용 템플릿 제작 연구 | 2005 추계 재료학회 | 2005 | ||
| 94 | 리소그래피분과 로드맵 발표 | 2005 한국반도체 및 디스플레이장비학회 추계학술대회 | 2005 | ||
| 93 | Resistance Switching Enhancement in Multi-step Deposition by Multi-deposition and Multi-anneal | 2005 한국반도체 및 디스플레이장비학회 추계학술대회 | 2005 | ||
| 92 | Charateristics of hybrid mask mold for combined nanoimprint and photolithography technique | 2005 한국반도체 및 디스플레이장비학회 추계학술대회 | 2005 | ||
| 91 | 극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구 | 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 | 2005 | ||
| 90 | TiO2 박막의 두께 및 열처리 온도에 따른 광학적 특성 분석 | 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 | 2005 | ||
| 89 | TiO2 박막의 다층 증착에 의한 Re-RAM 특성 변화 | 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 | 2005 | ||
| 88 | 나노 임프린트 리소그라피를 이용한 template 제작 방법에 관한 연구 | 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 | 2005 | ||
| 87 | Ru / Ti bilayer metal electrode를 이용한 게이트 일함수 조절 | 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 | 2005 | ||
| 86 | Structure Studies of In2O3 Structures prepared by Metalorganic Chemical Vapor Deposition | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 85 | Shadow effect reduction by side wall structure modification of extreme ultraviolet lithography mask | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 84 | Development of Resist Characterization System for EUVL using a synchrotron Light Source | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 83 | EUV 리소그라피용 multilayer의 반사도 향상 특성 | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 82 | Thin Gate Oxides Prepared by Hydrogen-Assisted Low Pressure Radical Oxidation for DRAM Devices Designated to 300mm Wafers Mass Production | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 81 | Electrical properties of ALD-HfO2 using H2O and D2O as an oxidant | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 80 | Defect Characterization of Ru / Mo / Si EUV Reflector by Optical Modeling | 제12회 한국반도체학술대회 | 2005 | ||
| 79 | Micro-wall 구조를 이용한 E-paper | 2004년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 | 2004 | ||
| 78 | 나노 임프린트와 포토 리소그라피 기술을 접목시킨 나노금 패터닝에 관한 연구 | 2004년 대한 금속 재료학회 | 2004 | ||
| 77 | 극자외선 노광공정용 반사미러의 성능향상을 위한 연구 | 2004년 대한 금속 재료학회 | 2004 | ||
| 76 | Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON의 특성 | 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 | 2004 | ||
| 75 | ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구 | 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 | 2004 | ||
| 74 | ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구 | 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 | 2004 | ||
| 73 | Micro-wall 구조를 적용한 e-paper의 제작 | 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 | 2004 | ||
| 72 | UV 차단 금속막 (hybrid mold mask)를 이용한 잔류층이 없는 UV-imprint patterning에 관한 연구 | 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 | 2004 | ||
| 71 | TiO2 나노 분말을 이용한 전자종이용 잉크 제조 | 2004년 한국세라믹학회 추계학술대회 | 2004 | ||
| 70 | Recent Progress on EUVL Mask Research | 제11회 한국반도체 학술대회 | 2004 | ||
| 69 | Midgap Nb gate compatible with Hfo2 | 제11회 한국반도체 학술대회 | 2004 | ||
| 68 | The thermal and electrical properties of TaN electrode on HfO2 gate dielectric | 제11회 한국반도체 학술대회 | 2004 | ||
| 67 | EUV 리소그라피용 마스크로서의 Mo / Ru / Si multilayer의 특성분석 | 제11회 한국반도체 학술대회 | 2004 | ||
| 66 | profile control of deep trench Si etch using SF / O2 plasma | 제11회 한국반도체 학술대회 | 2004 | ||
| 65 | HfO2 dielectric을 이용한 reactive sputtering TaN gate electrode의 특성분석 | 2003년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 | 2003 | ||
| 64 | Low-energy EPL 마스크 구현을 위한 특성연구 | 2003년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 | 2003 | ||
| 63 | Mo / Si 다층박막의 반사도에 영향을 미치는 인자 연구 | 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 | 2002 | ||
| 62 | ECR 플라즈마를 이용한 Ru 박막의 식각특성 | 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 | 2002 | ||
| 61 | Characterization of Hf02 / SiON stack structure for gate dielectrics | 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 | 2002 | ||
| 60 | ALD로 증착시킨 HfO2 / SiON 게이트 유전물질의 특성 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2002 | ||
| 59 | 0.15㎛이하 gate 전극용 건식식각 공정에 관한 연구 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2002 | ||
| 58 | Capacitor 전극용 Ru 박막의 식각 특성 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2002 | ||
| 57 | 극자외선 노광공정용 Ru / Mo / Si 반사형 다층박막 미러의 증착에 관한 연구 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2002 | ||
| 56 | MOCVD를 이용하여 증착시킨 Hafnium oxide박막의 전기적 특성 연구 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2002 | ||
| 55 | MOCVD를 이용한 Hafnium Oxide 박막증착 | 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 춘계 기술 심포지움 | 2002 | ||
| 54 | Ru / Mo / Si 다층박막 구조를 가지는 노광공정용 반사형 다층박막 미러의 제조 | 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 춘계 기술 심포지움 | 2002 | ||
| 53 | Etching characteristics of platinum films using SF6 / Ar plasma | 제 9회 반도체 학술대회 | 2002 | ||
| 52 | Characteristics of Atomic-layer-Depositied Hafnium Oxide Gate Dielectrics | 제 9회 반도체 학술대회 | 2002 | ||
| 51 | Mo / Si Multilayer for EUVL Lithography applications | 제 9회 반도체 학술대회 | 2002 | ||
| 50 | Comparison of evaluation techniques for ultrathin HfO2 gate dielectrics | SEMICON Korea | 2002 | ||
| 49 | Methodology for manufacturing highly reflective EUV masks | SEMICON Korea | 2002 | ||
| 48 | 극자외선 노광공정용 Mo / Si 다층박막 미러의 구조 분석 | 한국 마이크로전자 및 패키징학회 | 2001 | ||
| 47 | ECR 플라즈마를 사용한 백금박막의 식각 매카니즘에 관한 연구 | 한국 마이크로전자 및 패키징학회 | 2001 | ||
| 46 | 극자외선 노광공정용 Mo / Si 반사형 다층박막의 특성 연구 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2001 | ||
| 45 | SF6 / Ar 플라즈마를 사용한 개패시터 전극용 백금박막의 식각 특성 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2001 | ||
| 44 | LIGA process용 x-ray mask 연구 | 한국재료학회 춘계학술논문발표회 | 2001 | ||
| 43 | 원자층증착법을 이용한 Hafnium oxide박막의 전기적 특성 | 한국재료학회 춘계학술논문발표회 | 2001 | ||
| 42 | Multi-target sputtering을 이용한 Mo / Si X-ray 반사형 다층박막 증착에 관한 연구 | 한국재료학회 춘계학술논문발표회 | 2001 | ||
| 41 | EUVL 응용을 위한 Mo / Si 박막 특성 전산모사 | 한국세라믹학회 2001년도 춘계학술연구발표회 | 2001 | ||
| 40 | AlN 압전 박막을 이용한 브라그 반사층을 갖는 체적탄성파 공진기의 주파수 응답 | 한국세라믹학회 2001년도 춘계학술연구발표회 | 2001 | ||
| 39 | Fine Ta patterning by ECR Chlorine Plasma | 제8회 한국반도체학술대회 | 2001 | ||
| 38 | SiCxNy박막에 대한 LIGA용 mask membrane으로서의 적용 가능성에 관한 연구 | 제8회 한국반도체학술대회 | 2001 | ||
| 37 | Study on low-k polyimide etching with SF6 / O2 plasma | 제8회 한국반도체학술대회 | 2001 | ||
| 36 | Triode type carbon nanotube field emitter arrays directly grown into the holes formed on Si substrate | 한국 정보디스플레이학회 | 2000 | ||
| 35 | 염소플라즈마를 이용한 탄탈륨 미세패턴 식각특성 | 한국재료학회 추계학술논문발표회 | 2000 | ||
| 34 | ECR plasma CVD를 이용한 LIGA용 X-ray mask membrane SiCxNy박막의 증착 | 한국 마이크로전자 및 패키징학회 | 2000 | ||
| 33 | Fabrication of the triode structure FEA using the directly grown CNTs on SiO2-Si sustrate and field emission properties | 한국물리학회 | 2000 | ||
| 32 | Field electron emission from the diode structure nanotube emitters at low field | 한국물리학회 | 2000 | ||
| 31 | Catalytic metal effect on the growth characteristics of carbon nanotubes | 한국물리학회 | 2000 | ||
| 30 | 탄소 나노튜브를 이용한 삼극관 구조의 전계방출 소자 제조 | Field Emission Workshop 2000 | 2000 | ||
| 29 | Etching Characteristics of Fine Ta Patterns with Electron Cyclotron Resonance Chlorine Plasma | 5th International Symposium on Microelectronics and Packaging | 2000 | ||
| 28 | Properties of Interlayer Low Dielectric Polyimide During Aluminum Etching with Electron Cyclotron Resonance Etcher System | 5th International Symposium on Microelectronics and Packaging | 2000 | ||
| 27 | The effect of heat treatments on the electron emission of amorphous carbon film deposited by RF magnetron sputtering method | 제7회 한국반도체학술대회 | 2000 | ||
| 26 | Deposition and characterization of pure Ta and TaX films For next generation mask applications | 제7회 한국반도체학술대회 | 2000 | ||
| 25 | 카본 박막을 이용한 다이오드형 평면 에미터의 전자 방출 특성에 관한 연구 | 한국물리학회 추계학술논문발표회 | 1999 | ||
| 24 | 차세대 리소그래피용 매스크 기술 동향 | 대한금속학회 Thin Film Symposium | 1999 | ||
| 23 | MnO2 첨가에 의한 0.9PMN-0.1PT 완화형 강유전체의 압전물성 변화 | 한국재료학회 춘계학술대회 / 박주영, 박재환, 안진호, 김윤호 | 1999 | ||
| 22 | Al/polyimide 구조에서의 알루미늄 식각에 관한 연구 | 한국재료학회 춘계학술대회 / 문호성, 김상훈, 우상균, 이홍구, 김경석, 임승택, 이승윤, 안진호 | 1999 | ||
| 21 | 탄탈륨 합금을 이용한 X-선 흡수체 물성 연구 | 한국재료학회 춘계학술대회 / 김경석, 고중규, 박성영, 이승윤, 이홍구, 임승택, 안진호 | 1999 | ||
| 20 | 저유전상수 절연막 polyimide의 SF6 플라즈마 처리에 의한 특성 연구 | 제 6회 반도체학술대회 / 김상훈, 이홍구, 문호성, 안진호 | 1999 | ||
| 19 | Optimum design of illumination aperture with high throughput on ArF exposure system | 제 6회 반도체학술대회 / 차한선, 최상기, 김종수, 정혜빈, 조경익, 안진호 | 1999 | ||
| 18 | Micromachining가술을 이용한 초소형 자기공명 센서구조 연구 | 한국재료학회 추계학술대회 / 고중규, 김경석, 안진호 | 1998 | ||
| 17 | 고밀도 플라즈마를 이용한 다층 금속 박막층의 식각 특성 연구 | 한국재료학회 추계학술대회 / 이홍구, 문호성, 김상훈, 안진호 | 1998 | ||
| 16 | Sub-quarter-micron 노광을 위한 X-선 마스크 재료로서의 tantalum과 silicon carbide 물성에 관한 연구 | 한국재료학회 추계학술대회 / 강정호, 이승윤, 임승택, 안진호 | 1998 | ||
| 15 | Deposition of low stress, high transmittance SiC as an x-ray mask membrane using ECR plasma CVD | 제5회 한국반도체학술대회 / 이승윤, 송기창, 전영삼, 박칠근, 이돈희, 김태영, 권현자, 이정수, 강정호, 이태호, 안진호 | 1998 | ||
| 14 | 금속박 패터닝을 위한 새로운 반사방지막 구조 | 제5회 한국반도체학술대회 / 차한선, 최상수, 김종수, 김도훈, 이각현, 안진호, 정혜빈, 김보우 | 1998 | ||
| 13 | A study on the anisotropic etching of tungsten-nitride using SF6 plasma | 제5회 한국반도체학술대회 / 정창영, 송기창, 전영삼, 박칠근, 이돈희, 김태영, 안진호 | 1998 | ||
| 12 | Mask fabrication technology for X-ray lithography | 제3회 Lithography Workshop / 안진호 | 1997 | ||
| 11 | ICP 플라즈마를 이용한 WNx의 이방성 식각 | 한국재료학회 추계학술대회 / 정창영, 송기창, 전영삼, 박칠근, 이돈희, 안진호 | 1997 | ||
| 10 | 금속막 패터닝을 위한 새로운 반사 방지막 구조 | 한국재료학회 추계학술대회 / 차한선, 김종수, 최상수, 정해빈, 안진호 | 1997 | ||
| 9 | X-선 마스크용 W-Ti 흡수체의 Ti 함량 변화에 따른 특성변화 | 한국재료학회 추계학술대회 / 이규한, 고중규, 이홍구, 안진호 | 1997 | ||
| 8 | ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착 | 한국재료학회 추계학술대회 / 이승윤, 이규한, 송기창, 안진호 | 1997 | ||
| 7 | X-선 마스크 흡수체로써 텅스텐나이트라이드 이중층의 응력과 미세구조 | 1997년도 한국재료학회 춘계학술대회 / 이태호, 정창영, 안진호 | 1997 | ||
| 6 | Anisotropic Etching of Tungsten with ICP system | 제4회 반도체 학술대회 / 안진호 외 4명 | 1997 | ||
| 5 | 텅스텐 스퍼터링시 박막의 응력조절 | 한국재료학회 추계학술대회 / 이태호, 이규한, 박칠근, 안진호 | 1996 | ||
| 4 | X-선 마스크 제작을 위한 텅스텐 식각 | 한국재료학회 추계학술대회 / 정창영, 이돈희, 송기창, 전영삼, 안진호 | 1996 | ||
| 3 | LPCVD, PECVD, ECR plasm CVD를 이용한 SiN막질의 비교 | 한국재료학회 춘계학술대회 /이태호, 이규한, 이승윤, 정창영, 안진호 | 1996 | ||
| 2 | HV ECR plasma CVD를 이용한 X-ray lithography용 SiNx membrane | 한국재료학회 춘계학술대회 / 안진호 | 1995 | ||
| 1 | Experimental validation of particle impact on thermo-mechanical behavior of EUV pellicle |
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