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170 Fabrication and Analysis of Bio-applicable Core/Shell Nano-composites using Atomic Layer Deposition 2015 INST Symposium 성세종, 정용찬, 이태훈, 박인성, 안진호 2015.06.30
169 Resistive Switching of Atomic Layer Deposition grown Metal/Insulator/Metal devices 2015 INST Symposium 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 안진호 2015.06.30
168 Enhanced light extraction efficiency of double-side patterned Y2O3:Eu3+ thin-film phosphors by reverse nano-imprint lithography IFFM 김효준, 박철균, 고기영, 안진호 2015.06.26
167 다양한 패턴에 대한 EUV-CSM의 이미징 최적화와 제4회 차세대리소그래피학술대회 이승민, 이재욱, 홍성철, 김정식, 김정환, 송현민, 안진호 2015.04.03
166 극자외선 노광 공정용 half-tone 위상 변위 마스크 제작 공정 시 absorber stack의 sidewall angle의 영향 제4회 차세대리소그래피학술대회 송현민, 이재욱, 홍성철, 이승민, 김정식, 김정환, 안진호 2015.04.01
165 EUV resist underlayer의 광학적 특성이 이미징에 미치는 영향 제4회 차세대리소그래피학술대회 김정식, 홍성철, 이재욱, 이승민, 김정환, 송현민, 안진호 2015.04.01
164 SiNx 단일막을 이용한 EUV 펠리클 멤브레인의 기계적/광학적 특성 분석 제4회 차세대리소그래피학술대회 김정환, 이재욱, 홍성철, 이승민, 김정식, 송현민, 박진구, 오혜근, 안진호 2015.04.01
163 Electrode Dependent Interfacial Layer Scavenging and Characteristics Variation 제22회 한국반도체학술대회 이태훈, 성세종, 정용찬, 박인성, 이성보, 안진호 2015.02.11
162 Wet etching process를 통한 free standing pellicle membrane 제22회 한국반도체학술대회 김정환, 홍성철, 이재욱, 이승민, 김정식, 송현민, 안진호 2015.02.11
161 Hybrid Input-Output (HIO) 알고리즘을 사용한 마스크 패턴의 이미지 재구성 연구 제22회 한국반도체학술대회 이승민, 이재욱, 홍성철, 김정식, 김정환, 송현민, 안진호 2015.02.11
160 Intermediate phase transition of Ge2Sb2Te5 during melt-quenching process 2014 NVMTS (The 14th Non-Volatile Memory Technology Symposium) Minho Choi, Jinho Ahn, Young Hwan Kim, and Yong Tae Kim 2014.10.28
159 전극에 따른 계면 스캐빈징 특성 변화 연구 한국반도체디스플레이기술학회 2014년 춘계학술대회 이태훈, 성세종, 정용찬, 박인성, 안진호 2014.06.05
158 원자층증착법을 이용한 코어 / 쉘 나노입자 제조 방법과 특성 연구 한국반도체디스플레이기술학회 2014년 춘계학술대회 성세종, 정용찬, 이태훈, 박인성, 안진호 2014.06.05
157 Metal / Insulator / Metal 구조의 저항기에서 상 / 하부 전극의 차이에 따른 스위칭 특성 연구 한국반도체디스플레이기술학회 2014년 춘계학술대회 정용찬, 성세종, 이태훈, 박인성, 안진호 2014.06.05
156 Imaging performance of phase shift mask using coherent scattering microscopy 제3회 차세대 리소그래피 학술대회 이승민, 안진호 2014.04.10
155 극자외선 리소그래피 high-NA용 half-tone 위상변위마스크 구조 제3회 차세대 리소그래피 학술대회 김정식, 홍성철, 이재욱, 이승민, 김정환, 송현민, 안진호 2014.04.10
154 Numerous Challenges of EUV Lithography 제3회 차세대 리소그래피 학술대회 안진호 2014.02.25
153 Ge 기판의 S처리를 이용한 Charge-Trapping Type 소자의 메모리 특성연구 제 21회 한국반도체 학술대회 이명완, 정용찬, 성세종, 박인성, 안진호 2014.02.25
152 Estimating Electrical and Optical Properties of 1D Metal Grid Transparent Electrode on SiO2 Substrate 제 21회 한국반도체 학술대회 이길복, 안진호 2014.02.25
151 The speed improvement of In3SbTe2 phase change material by doping Bi element 제 21회 한국반도체 학술대회 최민호, 김용태, 안진호 2014.02.25
150 C/H pattern의 photon shot noise effect 정량화를 위한 stochastic simulation 제 21회 한국반도체 학술대회 김정식, 홍성철, 이승민, 정시준, 이재욱, 안진호 2014.02.25
149 The suggestion of half-tone phase-shift mask for high-NA EUVL 제 21회 한국반도체 학술대회 최민호, 김용태, 안진호 2014.02.25
148 Study of Etching properties of Nickel Absorber for EUV mask 제 21회 한국반도체 학술대회 김정식, 홍성철, 이승민, 정시준, 이재욱, 안진호 2014.02.25
147 2D ZrO2 nanoparticle photonic crystal double side coated Y3AI5O12:Ce3+ phosphor plate for white light emitting diodes 제3회 나노 임프린트, 몰딩, 프린트 학술대회 박철균, 고기영, 이헌, 안진호 2014.02.13
146 디스플레이 백플레인용 노광장치에서 해상력 향상을 위한 Rim Type Phase Shift Mask 시뮬레이션 평가 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) 김종석, 정시준, 김정식, 이재욱, 홍성철, 이승민, 안진호 2013.10.25
145 2차원 광결정 구조에 따른 박막 형광체의 발광 효율 비교 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) 박철균, 김기강, 안진호 2013.10.25
144 In3SbTe2(IST) 상변화 물질 내 Bi 도핑에 의한 특성 변화 연구 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) 최민호, 안진호 2013.10.25
143 높은 개구율을 갖는 은과 알루미늄 1차원 그리드의 투명전극으로서의 광투와 연구 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) 이길복, 안진호 2013.10.25
142 회절광 현미경을 이용한 극자외선 마스크 계측 및 검사 친환경 전자재료 및 나노기술 학술대회(ENGE2013) 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호 2013.10.25
141 X선 반사율 측정법을 이용한 극자외선 리소그래피용 마스크 구조체 물질의 광학상수계산 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 이승민, 이재욱, 홍성철, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호, 황보창권 2013.04.12
140 위상복원 알고리즘을 이용한 EUV 마스크의 이미징 영향분석 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호 2013.04.12
139 극자외선 리소그래피용 포톤샷 노이즈 감소를 위한 감쇠형 위상변위 마스크 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 홍성철, 이재욱, 이승민, 정시준, 김종석,김정식, 안진호 2013.04.12
138 G,H,I선 복합파장 노광기에서 위상변이 마스크를 사용한 해상력 향상에 관한 연구 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 김종석, 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김정식, 안진호 2013.04.12
137 The measurement and image reconstruction of EUV mask using coherent scattering microscopy 제2회 차세대 리소그라피 학술대회 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 김종석, 김정식, 안진호 2013.04.11
136 The Fabrication and Evaluation of Attenuated Phase Shift Mask for EUV Lithography 제 20회 한국반도체 학술대회 이재욱, 홍성철, 이승민, 정시준, 안진호 2013.02.06
135 Beyond EUV Lithography용 다층박막 물질 평가 제 20회 한국반도체 학술대회 홍성철, 정시준, 이재욱, 이승민, 성세종, 안진호 2013.02.05
134 Enhanced light extraction from red phosphor films via nano-imprint lithography using zirconia nanoparticles 25th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2012) KiKang Kim 2012.11.01
133 Microstructures of HfO2 thin films on Si and Ge evaluated using small angle neutron scattering International Union of Materials Research Socities-International Conference in Asia 2012 (IUMRS-ICA 2012) Tae-Gyu Shin, Baek-Seok Seong, Kyoung-min Ryu, YongChan Jung, Jinho Ahn, and In-Sung Park 2012.08.28
132 극자외선 리소그래피 용 얇은 하프톤 위상천이마스크 구조의 제시 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 홍성철,이상설,도종걸,이재욱 2012.02.10
131 극자외선 리소그라피 마스크의 새로운 흡수체물질 평가 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 이재욱,이상설,도종걸,홍성철 2012.02.10
130 Coherent Scattering Microscope for EUV mask 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 2012.02.10
129 크기가 다른 나노스피어를 이용한 나노스피어 리소그래피 제 1회 차세대 리소그래피 학술대회 이길복 2012.02.09
128 Integration of Coherent Scattering Microscope for EUV mask The 23rd Synchrotron Radiation User's Workshop & KOSUA Meeting 이재욱,도종걸,이상설 2011.11.17
127 Fabrication of 2D Photonic Crystal Layers by Reversal Nanoimprint of TiO2 Nanoparticles and Atomic Layer Deposition International Conference on Advanced Electromaterials (ICAE 2011) 허은진,이길복,최윤식 2011.11.10
126 Fabrication of 2D Metal Oxide (SiO2, Al2O3, TiO2) Nanoparticles Patterns by Nanoimprint Lithography International Conference on Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment(ENGE2011) 허은진,이길복,최윤식 2011.10.28
125 NWFET-type biosensor with a microfluidic device for detecting charged molecules 2011 한국물리학회 CHOI Minho, PARK Sang-Won, HWANG Yeong-Hyeon, CHO Won-Ju, AHN Jinho, KIM Yong Tae 2011.10.20
124 Integration of Stand-Alone Coherent Scattering Microscope with FemtoSecond Laser based EUV source 2011 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography Jae Uk Lee, Seong Chul Hong, Sangsul Lee, Jonggul Do and Jinho Ahn 2011.10.18
123 Fabrication of 2D metal oxide patterns from nanoparticle (SiO2, Al2O3, TiO2) by direct nanoimprint lithography 제 108회 대한화학회 학술발표회 허은진 2011.09.29
122 Fabrication of 2D TiO2 nanoholes from TiO2 nanoparticles by nanoimprint method 제 107회 대한화학회 허은진,최윤식 2011.04.28
121 Optimization of thin half-tone phase shift mask stack for Extreme Ultraviolet Lithography 2011년도 대한금속 재료학회 춘계학술대회 이재욱,정창영,도종걸,이상설 2011.04.22
120 Process development for high aspect ratio patterns with combined imprint techniques 정창영, 심규현, 도종걸 제18회 반도체학술대회 2011.02.17
119 Dielectric and Metal Electrode Effects on Metal-Insulator-Metal Capacitor for Radio Frequency and Analog/Mixed-Siganl Integrated Circuits 제20회 유전체물성 심포지엄 & 제 12회 강유전체 소자 / 소재 워크숍 류경민 2011.02.14
118 Oxygen pressure effect on optical properties of reactively sputtered ZnO thin films 제20회 유전체물성 심포지엄 & 제 12회 강유전체 소자 / 소재 워크숍 박정혁 2011.02.14
117 금속-절연체 상전이 이산화바나듐 박막의 형성 및 광학적 특성 2010년도 한국재료학회 박승준, 권순우, 안진호, 윤대호, 이한영, 양우석 2010.05.01
116 Enhanced Interface and Bulk Properties of HfO2 Film at Metal-Insulator-Ge Capacitors 제17회 한국반도체학술대회 최영재, 고기영, 박인성, 안진호 2010.02.01
115 development of Mask Contamination/Inspection System for Extreme Ultra Violet Lithography 제17회 한국반도체학술대회 이상설, 정창영, 신현덕, 도종걸, 이동근, 김성수, 조한구, 나승유, 안진호 2010.02.01
114 Electrical Characteristics of Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors with High Mobolity Substrates 제16회 한국반도체학술대회 2009
113 The Study of Bi-Layer ArF Phase Shift mask for High Transmittance Material 제16회 한국반도체학술대회 2009
112 Overview of Infrastructure for EUV Lithography 제20차 방사광이용자연구발표회 2008
111 The development status of EUVL test bed at PAL 11B beamline 제20차 방사광이용자연구발표회 2008
110 Resistance switching characteristics of HfO2 thin film with voltage pulse mode operation 2008년도 대한금속, 재료학회 추계 학술대회 2008
109 Electrical characteristics of atomic layer deposition HfO2 High-k dielectric layer on Ge substrate 2008년도 대한금속, 재료학회 추계 학술대회 2008
108 반사 광학을 이용한 극자외선 노광기술 2008 금속재료학회 2008
107 Development of attenuated PSM mask for extreme ultra violet lithography with minmized mask shadowing effect 제15회 반도체 학술대회 2008
106 Out-gassing study of EUV resist 제15회 반도체 학술대회 2008
105 Characteristics of Phase Shift Mask for Extreme Ultraviolet Lithography 14회 반도체 학술대회 2007
104 Resistives switching characteristics of binary oxides 13회 반도체학술대회 2006
103 The Absober ShapeDependencyofPatternPrintabilityforExtremeUltraviolet Lithography(EUVL) 13회 반도체학술대회 2006
102 Femtosecond Laser Interference Structuring of Amorphous Silicon by TiO2 Phase Grating Fabricated Using Lift-off Technique 13회 반도체학술대회 2006
101 study of a thin Al2O3 / TaN absorber stack on Ru-capped multilayers 13회 반도체학술대회 2006
100 Mo 전극을 이용한 HfO2 MOS capacitor 의 전기적 특성과 신뢰성 13회 반도체학술대회 2006
99 Fabrication of optimized absorber stack on Ru capped multilayer 2006 금속재료학회 2006
98 극자외선 노광공정용 반사 다층박막의 capping layer 특성분석 2006 금속재료학회 2006
97 Resistive Switching Characteristies of HfO2 Deposited by Atomic Layer Deposition 15회 강유전체 연합 심포지업 2006
96 Metal precursor effect on deposition and interfacial characteristies of HfO2 dielectries grown by atomic layer deposition 15회 강유전체 연합 심포지업 2006
95 Nano-structure fabrication without etching process using PDMS transcription method 2005 추계 IMAPS, 한양대학교 2005
94 비점착성 SiO2 층을 이용한 나노임프린트용 템플릿 제작 연구 2005 추계 재료학회 2005
93 리소그래피분과 로드맵 발표 2005 한국반도체 및 디스플레이장비학회 추계학술대회 2005
92 Resistance Switching Enhancement in Multi-step Deposition by Multi-deposition and Multi-anneal 2005 한국반도체 및 디스플레이장비학회 추계학술대회 2005
91 Charateristics of hybrid mask mold for combined nanoimprint and photolithography technique 2005 한국반도체 및 디스플레이장비학회 추계학술대회 2005
90 극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 2005
89 TiO2 박막의 두께 및 열처리 온도에 따른 광학적 특성 분석 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 2005
88 TiO2 박막의 다층 증착에 의한 Re-RAM 특성 변화 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 2005
87 나노 임프린트 리소그라피를 이용한 template 제작 방법에 관한 연구 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 2005
86 Ru / Ti bilayer metal electrode를 이용한 게이트 일함수 조절 2005년 한국재료학회 춘계학술 발표대회 2005
85 Structure Studies of In2O3 Structures prepared by Metalorganic Chemical Vapor Deposition 제12회 한국반도체학술대회 2005
84 Shadow effect reduction by side wall structure modification of extreme ultraviolet lithography mask 제12회 한국반도체학술대회 2005
83 Development of Resist Characterization System for EUVL using a synchrotron Light Source 제12회 한국반도체학술대회 2005
82 EUV 리소그라피용 multilayer의 반사도 향상 특성 제12회 한국반도체학술대회 2005
81 Thin Gate Oxides Prepared by Hydrogen-Assisted Low Pressure Radical Oxidation for DRAM Devices Designated to 300mm Wafers Mass Production 제12회 한국반도체학술대회 2005
80 Electrical properties of ALD-HfO2 using H2O and D2O as an oxidant 제12회 한국반도체학술대회 2005
79 Defect Characterization of Ru / Mo / Si EUV Reflector by Optical Modeling 제12회 한국반도체학술대회 2005
78 Micro-wall 구조를 이용한 E-paper 2004년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 2004
77 나노 임프린트와 포토 리소그라피 기술을 접목시킨 나노금 패터닝에 관한 연구 2004년 대한 금속 재료학회 2004
76 극자외선 노광공정용 반사미러의 성능향상을 위한 연구 2004년 대한 금속 재료학회 2004
75 Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON의 특성 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 2004
74 ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 2004
73 ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 2004
72 Micro-wall 구조를 적용한 e-paper의 제작 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 2004
71 UV 차단 금속막 (hybrid mold mask)를 이용한 잔류층이 없는 UV-imprint patterning에 관한 연구 2004 한국재료학회 추계학술발표대회 2004
70 TiO2 나노 분말을 이용한 전자종이용 잉크 제조 2004년 한국세라믹학회 추계학술대회 2004
69 Recent Progress on EUVL Mask Research 제11회 한국반도체 학술대회 2004
68 Midgap Nb gate compatible with Hfo2 제11회 한국반도체 학술대회 2004
67 The thermal and electrical properties of TaN electrode on HfO2 gate dielectric 제11회 한국반도체 학술대회 2004
66 EUV 리소그라피용 마스크로서의 Mo / Ru / Si multilayer의 특성분석 제11회 한국반도체 학술대회 2004
65 profile control of deep trench Si etch using SF / O2 plasma 제11회 한국반도체 학술대회 2004
64 HfO2 dielectric을 이용한 reactive sputtering TaN gate electrode의 특성분석 2003년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 2003
63 Low-energy EPL 마스크 구현을 위한 특성연구 2003년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 2003
62 Mo / Si 다층박막의 반사도에 영향을 미치는 인자 연구 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 2002
61 ECR 플라즈마를 이용한 Ru 박막의 식각특성 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 2002
60 Characterization of Hf02 / SiON stack structure for gate dielectrics 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 추계 기술 심포지움 2002
59 ALD로 증착시킨 HfO2 / SiON 게이트 유전물질의 특성 한국재료학회 추계학술논문발표회 2002
58 0.15㎛이하 gate 전극용 건식식각 공정에 관한 연구 한국재료학회 추계학술논문발표회 2002
57 Capacitor 전극용 Ru 박막의 식각 특성 한국재료학회 추계학술논문발표회 2002
56 극자외선 노광공정용 Ru / Mo / Si 반사형 다층박막 미러의 증착에 관한 연구 한국재료학회 추계학술논문발표회 2002
55 MOCVD를 이용하여 증착시킨 Hafnium oxide박막의 전기적 특성 연구 한국재료학회 추계학술논문발표회 2002
54 MOCVD를 이용한 Hafnium Oxide 박막증착 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 춘계 기술 심포지움 2002
53 Ru / Mo / Si 다층박막 구조를 가지는 노광공정용 반사형 다층박막 미러의 제조 2002년도 한국마이크로전자 및 패키징 학회 춘계 기술 심포지움 2002
52 Etching characteristics of platinum films using SF6 / Ar plasma 제 9회 반도체 학술대회 2002
51 Characteristics of Atomic-layer-Depositied Hafnium Oxide Gate Dielectrics 제 9회 반도체 학술대회 2002
50 Mo / Si Multilayer for EUVL Lithography applications 제 9회 반도체 학술대회 2002
49 Comparison of evaluation techniques for ultrathin HfO2 gate dielectrics SEMICON Korea 2002
48 Methodology for manufacturing highly reflective EUV masks SEMICON Korea 2002
47 극자외선 노광공정용 Mo / Si 다층박막 미러의 구조 분석 한국 마이크로전자 및 패키징학회 2001
46 ECR 플라즈마를 사용한 백금박막의 식각 매카니즘에 관한 연구 한국 마이크로전자 및 패키징학회 2001
45 극자외선 노광공정용 Mo / Si 반사형 다층박막의 특성 연구 한국재료학회 추계학술논문발표회 2001
44 SF6 / Ar 플라즈마를 사용한 개패시터 전극용 백금박막의 식각 특성 한국재료학회 추계학술논문발표회 2001
43 LIGA process용 x-ray mask 연구 한국재료학회 춘계학술논문발표회 2001
42 원자층증착법을 이용한 Hafnium oxide박막의 전기적 특성 한국재료학회 춘계학술논문발표회 2001
41 Multi-target sputtering을 이용한 Mo / Si X-ray 반사형 다층박막 증착에 관한 연구 한국재료학회 춘계학술논문발표회 2001
40 EUVL 응용을 위한 Mo / Si 박막 특성 전산모사 한국세라믹학회 2001년도 춘계학술연구발표회 2001
39 AlN 압전 박막을 이용한 브라그 반사층을 갖는 체적탄성파 공진기의 주파수 응답 한국세라믹학회 2001년도 춘계학술연구발표회 2001
38 Fine Ta patterning by ECR Chlorine Plasma 제8회 한국반도체학술대회 2001
37 SiCxNy박막에 대한 LIGA용 mask membrane으로서의 적용 가능성에 관한 연구 제8회 한국반도체학술대회 2001
36 Study on low-k polyimide etching with SF6 / O2 plasma 제8회 한국반도체학술대회 2001
35 Triode type carbon nanotube field emitter arrays directly grown into the holes formed on Si substrate 한국 정보디스플레이학회 2000
34 염소플라즈마를 이용한 탄탈륨 미세패턴 식각특성 한국재료학회 추계학술논문발표회 2000
33 ECR plasma CVD를 이용한 LIGA용 X-ray mask membrane SiCxNy박막의 증착 한국 마이크로전자 및 패키징학회 2000
32 Fabrication of the triode structure FEA using the directly grown CNTs on SiO2-Si sustrate and field emission properties 한국물리학회 2000
31 Field electron emission from the diode structure nanotube emitters at low field 한국물리학회 2000
30 Catalytic metal effect on the growth characteristics of carbon nanotubes 한국물리학회 2000
29 탄소 나노튜브를 이용한 삼극관 구조의 전계방출 소자 제조 Field Emission Workshop 2000 2000
28 Etching Characteristics of Fine Ta Patterns with Electron Cyclotron Resonance Chlorine Plasma 5th International Symposium on Microelectronics and Packaging 2000
27 Properties of Interlayer Low Dielectric Polyimide During Aluminum Etching with Electron Cyclotron Resonance Etcher System 5th International Symposium on Microelectronics and Packaging 2000
26 The effect of heat treatments on the electron emission of amorphous carbon film deposited by RF magnetron sputtering method 제7회 한국반도체학술대회 2000
25 Deposition and characterization of pure Ta and TaX films For next generation mask applications 제7회 한국반도체학술대회 2000
24 카본 박막을 이용한 다이오드형 평면 에미터의 전자 방출 특성에 관한 연구 한국물리학회 추계학술논문발표회 1999
23 차세대 리소그래피용 매스크 기술 동향 대한금속학회 Thin Film Symposium 1999
22 MnO2 첨가에 의한 0.9PMN-0.1PT 완화형 강유전체의 압전물성 변화 한국재료학회 춘계학술대회 / 박주영, 박재환, 안진호, 김윤호 1999
21 Al/polyimide 구조에서의 알루미늄 식각에 관한 연구 한국재료학회 춘계학술대회 / 문호성, 김상훈, 우상균, 이홍구, 김경석, 임승택, 이승윤, 안진호 1999
20 탄탈륨 합금을 이용한 X-선 흡수체 물성 연구 한국재료학회 춘계학술대회 / 김경석, 고중규, 박성영, 이승윤, 이홍구, 임승택, 안진호 1999
19 저유전상수 절연막 polyimide의 SF6 플라즈마 처리에 의한 특성 연구 제 6회 반도체학술대회 / 김상훈, 이홍구, 문호성, 안진호 1999
18 Optimum design of illumination aperture with high throughput on ArF exposure system 제 6회 반도체학술대회 / 차한선, 최상기, 김종수, 정혜빈, 조경익, 안진호 1999
17 Micromachining가술을 이용한 초소형 자기공명 센서구조 연구 한국재료학회 추계학술대회 / 고중규, 김경석, 안진호 1998
16 고밀도 플라즈마를 이용한 다층 금속 박막층의 식각 특성 연구 한국재료학회 추계학술대회 / 이홍구, 문호성, 김상훈, 안진호 1998
15 Sub-quarter-micron 노광을 위한 X-선 마스크 재료로서의 tantalum과 silicon carbide 물성에 관한 연구 한국재료학회 추계학술대회 / 강정호, 이승윤, 임승택, 안진호 1998
14 Deposition of low stress, high transmittance SiC as an x-ray mask membrane using ECR plasma CVD 제5회 한국반도체학술대회 / 이승윤, 송기창, 전영삼, 박칠근, 이돈희, 김태영, 권현자, 이정수, 강정호, 이태호, 안진호 1998
13 금속박 패터닝을 위한 새로운 반사방지막 구조 제5회 한국반도체학술대회 / 차한선, 최상수, 김종수, 김도훈, 이각현, 안진호, 정혜빈, 김보우 1998
12 A study on the anisotropic etching of tungsten-nitride using SF6 plasma 제5회 한국반도체학술대회 / 정창영, 송기창, 전영삼, 박칠근, 이돈희, 김태영, 안진호 1998
11 Mask fabrication technology for X-ray lithography 제3회 Lithography Workshop / 안진호 1997
10 ICP 플라즈마를 이용한 WNx의 이방성 식각 한국재료학회 추계학술대회 / 정창영, 송기창, 전영삼, 박칠근, 이돈희, 안진호 1997
9 금속막 패터닝을 위한 새로운 반사 방지막 구조 한국재료학회 추계학술대회 / 차한선, 김종수, 최상수, 정해빈, 안진호 1997
8 X-선 마스크용 W-Ti 흡수체의 Ti 함량 변화에 따른 특성변화 한국재료학회 추계학술대회 / 이규한, 고중규, 이홍구, 안진호 1997
7 ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착 한국재료학회 추계학술대회 / 이승윤, 이규한, 송기창, 안진호 1997
6 X-선 마스크 흡수체로써 텅스텐나이트라이드 이중층의 응력과 미세구조 1997년도 한국재료학회 춘계학술대회 / 이태호, 정창영, 안진호 1997
5 Anisotropic Etching of Tungsten with ICP system 제4회 반도체 학술대회 / 안진호 외 4명 1997
4 텅스텐 스퍼터링시 박막의 응력조절 한국재료학회 추계학술대회 / 이태호, 이규한, 박칠근, 안진호 1996
3 X-선 마스크 제작을 위한 텅스텐 식각 한국재료학회 추계학술대회 / 정창영, 이돈희, 송기창, 전영삼, 안진호 1996
2 LPCVD, PECVD, ECR plasm CVD를 이용한 SiN막질의 비교 한국재료학회 춘계학술대회 /이태호, 이규한, 이승윤, 정창영, 안진호 1996
1 HV ECR plasma CVD를 이용한 X-ray lithography용 SiNx membrane 한국재료학회 춘계학술대회 / 안진호 1995