Num |
특허명 |
출원일 |
출원번호 |
등록일 |
등록번호 |
141 |
MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME |
2019.03.11 |
16/298,991 |
2022.08.02 |
11,402,746 |
140 |
위상 변위 마스크의 양불 검사 방법, 및 이를 위한 양불 검사 장치 |
2017.04.27 |
10-2017-0054483 |
2021.10.27 |
10-2320292 |
139 |
EUV 리소그래피용 펠리클 제조 방법 및 그 제조 장치 |
2019.08.27 |
10-2019-0105407 |
2021.10.06 |
10-2312385 |
138 |
PELLICLE HOLDER, PELLICLE INSPECTION APPARATUS, AND PELLICLE INSPECTION METHOD |
2019.11.21 |
16/690,254 |
2021.10.05 |
US 11,137,693 |
137 |
펠리클 멤브레인의 검사 데이터베이스 구축 방법 및 그 데이터베이스를 이용한 펠리클 멤브레인의 검사 방법 |
2019.02.22 |
10-2019-0020824 |
2021.08.27 |
10-2297038 |
136 |
EUV PELLICLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
2018.07.26 |
201780008507.3 |
2021.07.27 |
CN 108604057 |
135 |
타이코그래피 이미징 장치 및 방법 |
2019.11.25 |
10-2019-0152462 |
2021.05.20 |
10-2256578 |
134 |
펠리클 홀더, 펠리클 검사 장치, 및 펠리클 검사 방법 |
2019.06.03 |
10-2019-0065308 |
2021.04.16 |
10-2243367 |
133 |
EUV 리소그래피용 마스크 및 그 제조 방법 |
2019.04.30 |
10-2019-0050819 |
2021.04.01 |
10-2237572 |
132 |
EUV pellicle structure and method for manufacturing same |
2018.07.26 |
16/046,355 |
2021.03.30 |
US 10,962,876 |
131 |
EUV pellicle structure and method for manufacturing same |
2017.01.09 |
PCT/KR2017/000263 |
2021.03.30 |
US 10,962,876 |
130 |
절연막의 제조 방법, 및 이를 이용한 절연막 |
2017.08.11 |
10-2017-0101993 |
2021.02.15 |
10-2217847 |
129 |
극자외선 리소그래피용 마스크, 및 그 제조 방법 |
2019.03.18 |
10-2019-0030402 |
2021.02.04 |
10-2214777 |
128 |
EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 |
2016.01.26 |
10-2016-0009285 |
2020.11.27 |
10-2186010 |
127 |
반도체 제조용 막 |
2018.04.10 |
10-2018-0041816 |
2020.11.26 |
10-2185991 |
126 |
펠리클 식각 지그 및 펠리클 식각 시스템 |
2018.10.05 |
10-2018-0119128 |
2020.07.28 |
10-2140870 |
125 |
Pellicle for EUV lithography |
2016.10.17 |
201580020112.6 |
2020.07.10 |
CN 106233202 |
124 |
펠리클 구조체 및 이를 이용한 리소그래피용 마스크의 결함 검사 방법 |
2018.03.28 |
10-2018-0036176 |
2020.04.06 |
10-2100029 |
123 |
스페이서 패턴 및 위상변위 패턴을 포함하는 위상변위 마스크 및 그 제조 방법 |
2018.01.12 |
10-2018-0004426 |
2019.11.27 |
10-2051730 |
122 |
EUV 마스크 세정 용액 및 그 세정 방법 |
2017.04.27 |
10-2017-0054517 |
2019.04.18 |
10-1972212 |
121 |
EUV 리소그래피용 펠리클 제조 방법 |
2014.11.19 |
10-2014-0161522 |
2018.12.21 |
10-1933739 |
120 |
Mask for extreme ultraviolet lithography process and method of fabricating the same |
2015.08.13 |
14/825,572 |
2018.08.28 |
US 10,061,190 |
119 |
감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제작 방법 |
2015.09.10 |
10-2015-0128214 |
2018.05.17 |
10-1860987 |
118 |
Pellicle for EUV lithography |
2016.10.14 |
15/304,275 |
2018.05.01 |
US 9,958,770 |
117 |
마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치 |
2016.09.12 |
10-2016-0117214 |
2018.04.05 |
10-1848153 |
116 |
펠리클의 검사 장치 및 그 검사 방법 |
2016.03.23 |
10-2016-0034688 |
2017.12.04 |
10-1807396 |
115 |
EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 |
2016.04.21 |
10-2016-0048538 |
2017.10.25 |
10-1792409 |
114 |
EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 |
2016.01.13 |
10-2016-0004118 |
2017.07.20 |
10-1762059 |
113 |
EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 |
2016.02.04 |
10-2016-0014268 |
2017.04.05 |
10-1726125 |
112 |
극자외선 노광 공정용 마스크, 및 그 제조 방법 |
2015.06.04 |
10-2015-0079159 |
2017.04.05 |
10-1726045 |
111 |
극자외선 리소그래피용 펠리클 구조체 |
2015.10.23 |
10-2015-0148183 |
2017.03.03 |
10-1714908 |
110 |
3차원 프린팅 복합 재료, 및 그 제조 방법 |
2015.04.30 |
10-2015-0061260 |
2016.12.22 |
10-1690871 |
109 |
마스크 및 펠리클의 교정 공정을 포함하는 노광 방법, 및 노광 장치 |
2015.04.24 |
10-2015-0057870 |
2016.12.22 |
10-1690869 |
108 |
EUV 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법 |
2014.04.17 |
10-2014-0046218 |
2016.11.23 |
10-1680937 |
107 |
단일층 흡수체 박막을 이용한 극자외선 노광공정용 위상반전마스크 |
2012.11.23 |
10-2012-0133967 |
2016.11.09 |
10-1676514 |
106 |
EUV 리소그래피용 펠리클 |
2014.04.17 |
10-2014-0046210 |
2016.11.08 |
10-1676095 |
105 |
펠리클 및 그 제조 방법 |
2015.04.24 |
10-2015-0057962 |
2016.05.18 |
10-1624078 |
104 |
나노 전극층 생성 방법 |
2014.06.02 |
10-2014-0066930 |
2016.04.28 |
10-1618436 |
103 |
저항 메모리 소자에서 전극 생성 방법 |
2014.05.23 |
10-2014-0062535 |
2015.11.13 |
10-1570605 |
102 |
비휘발성 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
2014.03.20 |
10-2014-0032925 |
2015.06.05 |
10-1528421 |
101 |
극자외선 노광 공정용 마스크 |
2013.07.15 |
10-2013-0082724 |
2015.04.06 |
10-1511426 |
100 |
극자외선 노광 공정용 마스크 |
2013.07.15 |
10-2013-0082688 |
2015.01.30 |
10-1490603 |
99 |
나노스피어 어레이 제조 장치 및 이를 이용한 나노스피어 어레이 제조 방법 |
2013.11.29 |
10-2013-0146831 |
2014.11.10 |
10-1462357 |
98 |
3차원 탄소나노튜브 네트워크를 포함하는 태양전지 및 이의 제조방법 |
2011.11.10 |
10-2011-0117103 |
2014.07.11 |
10-1420905 |
97 |
광결정 구조체, 이를 포함하는 발광 다이오드 및 이의 제조방법 |
2012.04.02 |
10-2012-0033815 |
2013.10.29 |
10-1325323 |
96 |
광추출 효율이 향상된 2차원 광결정 구조체 및 이의 제조방법 |
2011.04.20 |
10-2011-0036951 |
2013.08.16 |
10-1299359 |
95 |
다양한 크기의 나노스피어를 이용한 2차원 광결정 구조체 및 이의 제조방법2D |
2012.01.25 |
10-2012-0007402 |
2013.07.17 |
10-1289200 |
94 |
극자외선 노광용 마스크 및 그의 제조방법 |
2012.02.13 |
10-2012-0014265 |
2013.07.08 |
10-1285975 |
93 |
극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치 및 방법 |
2009.11.05 |
10-2009-0106310 |
2013.05.31 |
10-1272039 |
92 |
MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL |
2006.06.01 |
513038 |
2013.03.01 |
5208108 |
91 |
MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL |
2008.11.21 |
12/227,594 |
2013.01.29 |
US 8,361,545 |
90 |
Ge 기판 위에 유전막을 형성하는 방법 및 이를 이용한 전계효과장치의 제조 방법 및 전계효과장치 |
2010.09.17 |
10-2010-0091532 |
2012.05.25 |
10-1152441 |
89 |
FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY |
2006.05.13 |
112004002199.5 |
2012.03.08 |
112004002199.5 |
88 |
극자외선 노광 공정용 위상 반전 마스크 |
2009.07.22 |
10-2009-0066745 |
2011.08.01 |
10-1054746 |
87 |
FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY |
2006.05.09 |
10/578,683 |
2009.03.24 |
US 7,507,505 |
86 |
위상 반전 마스크 및 이의 제조방법 |
2007.08.31 |
10-2007-0088456 |
2009.01.09 |
10-0879139 |
85 |
극자외선 노광공정용 마스크 및 그의 제조방법 |
2006.09.09 |
10-2006-0087094 |
2008.01.30 |
10-0801484 |
84 |
극자외선 노광 공정용 Ru/Mo/Si 반사형 다층 박막 미러 |
2001.05.23 |
10-2001-0028385 |
2007.05.31 |
10-0725859 |
83 |
절연막의 적층증착에 의한 저항 메모리 소자의 제조방법 |
2005.06.23 |
10-2005-0054341 |
2007.05.22 |
10-0722853 |
82 |
고분자 탄성 중합체를 사용한 자체 전사에 의한 미세패턴의형성방법 |
2006.01.10 |
10-2006-0002526 |
2007.04.26 |
10-0714218 |
81 |
점착 방지막을 지니는 스탬프의 구조 및 제조방법과 이에의한 나노패턴 전사방법 |
2005.07.07 |
10-2005-0061325 |
2006.12.28 |
10-0665038 |
80 |
원자력간 현미경 리소그래피 기술을 이용한 극자외선 노광공정용 반사형 다층 박막 미러의 제조방법 |
2003.11.20 |
10-2003-0082777 |
2006.01.04 |
10-0542464 |
79 |
반사형 다층 박막 미러 및 그 제조 방법 |
2001.12.24 |
10-2001-0084340 |
2004.10.13 |
10-0454081 |
78 |
구조인자 조절을 통한 극자외선 노광공정용 Mo/Si 반사형 다층박막 |
2002.02.20 |
10-2002-0009057 |
2003.12.09 |
10-0412069 |
77 |
마스크 멤브레인의 제조방법 |
2001.04.30 |
10-2001-0023327 |
2003.07.08 |
10-0392191 |
76 |
3차원 메모리 어레이 및 그 제조 방법 |
2024.02.08 |
10-2024-0019972 |
|
|
75 |
이온주입공정을 활용한 극자외선 노광공정용 마스크 제작 방법 |
2024.01.29 |
10-2024-0012979 |
|
|
74 |
보호층 증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 |
2024.01.03 |
PCT/KR2024/000092 |
|
|
73 |
멤브레인 제작을 위한 습식 식각 공정에서의 멤브레인의 공정 및 제작 균일도 향상을 위한 구조 및 구조체 |
2023.10.31 |
10-2023-0147759 |
|
|
72 |
Free-standing 멤브레인 제작을 위한 습식 식각 공정에서의 멤브레인 오염 최소화를 위한 구조 및 그 구조체 |
2023.10.31 |
10-2023-0147758 |
|
|
71 |
극자외선 노광공정용 마스크 합금형 흡수체 소재 |
2023.11.21 |
10-2023-0162662 |
|
|
70 |
회절광 위상 특성 최적화를 통한 극자외선 리소그래피용 마스크 성능 향상 기술 |
2023.11.10 |
10-2023-0155321 |
|
|
69 |
EUV 포토레지스트의 최적화된 성능을 위한 다양한 무기나노층들이 수직 설계 및 증착된 나노라미네이트 무기다층막 포토레지스트 제작 방법 및 구조 |
2023.07.10 |
18/349,504 |
|
|
68 |
자외선 광을 이용한 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 평가 장치와 그 방법 |
2023.09.25 |
10-2023-0127687 |
|
|
67 |
극자외선 광의 위상 변위량 및 굴절계수 측정 장치 및 방법 |
2023.09.06 |
10-2023-0118214 |
|
|
66 |
반도체 소자와 3차원 메모리 소자 및 이들의 제조 방법 |
2023.08.04 |
10-2023-0102304 |
|
|
65 |
DRAM용 반도체 소자 및 그의 제조방법 |
2023.07.04 |
PCT/KR2023/009387 |
|
|
64 |
다층메모리의 커패시터 제조방법 |
2023.06.23 |
10-2023-0081285 |
|
|
63 |
보호층 증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 |
2023.06.21 |
10-2023-0079681 |
|
|
62 |
극자외선 마스크 소재의 위상 측정 장치 및 그 방법 |
2023.05.25 |
PCT/KR2023/007157 |
|
|
61 |
조명계 조절을 통한 EUV 마스크의 검사 해상도 향상 기법 |
2023.05.25 |
PCT/KR2023/007158 |
|
|
60 |
극자외선 노광공정용 펠리클 및 마스크 종합 검사 장치 |
2023.04.07 |
PCT/KR2023/004718 |
|
|
59 |
Optical flat을 이용한 extreme ultraviolet 블랭크마스크 검사 장치 및 그 방법 |
2023.04.03 |
10-2023-0043329 |
|
|
58 |
위상 복원 알고리즘을 이용한 EUV 소재의 광학 상수 측정 장치와 그 방법 |
2023.03.24 |
10-2023-0038378 |
|
|
57 |
소재의 극자외선 광 특성 평가 및 패턴 마스크 검사 장치 |
2023.03.24 |
10-2023-0038380 |
|
|
56 |
DRAM의 커패시터 및 그 제조 방법 |
2023.03.22 |
10-2023-0037185 |
|
|
55 |
조리개 합성 및 비축조명 기술을 이용한 고개구수 극자외선 노광공정용 마스크 검사 장치 및 방법 |
2023.03.16 |
10-2023-0034810 |
|
|
54 |
자외선 광을 이용한 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 평가 장치와 그 방법 |
2023.03.13 |
18/179,875 |
|
|
53 |
극자외선 광원의 결맞음성 조절을 이용한 고해상도 마스크 검사 장치 및 그 방법 |
2023.03.10 |
10-2023-0031617 |
|
|
52 |
극자외선 노광공정용 마스크 합금형 흡수체 소재 |
2023.07.03 |
10-2023-0086037 |
|
|
51 |
보호층 증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 |
2023.01.03 |
10-2023-0000492 |
|
|
50 |
Free-standing membrane 구조의 희생층에 펠리클화 기반층 직접 증착을 통한 EUV 펠리클 제작 방법 |
2023.01.03 |
10-2023-0000491 |
|
|
49 |
2차원 다각형 조합의 다공 배열을 포함한 고투과/저반사 EUV 펠리클 및 그 구조 |
2023.01.03 |
10-2023-0000490 |
|
|
48 |
펠리클 세정 장치 및 이를 이용한 펠리클 세정 방법 |
2021.12.23 |
10-2021-0185830 |
|
|
47 |
PELLICLE CLEANING APPARATUS AND PELLICLE CLEANING METHOD USING THE SAME |
2022.12.23 |
202211663432.1 |
|
|
46 |
분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 |
2022.08.12 |
PCT/KR2022/012143 |
|
|
45 |
분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 |
2022.08.12 |
10-2022-0101505 |
|
|
44 |
DRAM 소자의 캐패시터 및 그 제조 방법 |
2022.07.04 |
10-2022-0081588 |
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43 |
MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME |
2022.06.28 |
17/851,580 |
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42 |
조명계 조절을 통한 EUV 마스크 검사 장치 및 방법 |
2022.06.02 |
10-2022-0067753 |
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41 |
EUV 마스크 소재의 굴절계수 및 흡광계수 측정 장치 및 방법 |
2022.05.30 |
10-2022-0066154 |
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40 |
EUV 노광공정용 종합 검사 장치 |
2022.04.07 |
10-2022-0043229 |
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39 |
극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 개선 방법 |
2021.11.24 |
10-2021-0162990 |
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38 |
극자외선 양산 공정 적용을 위해 다층 박막 간 inter-mixing layer를 기형성한 펠리클 구조체 |
2021.11.11 |
10-2021-0155031 |
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37 |
3차원 DRAM용 반도체의 Array 구조 및 그의 제조방법 |
2021.11.10 |
10-2021-0154047 |
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36 |
EUV 마스크 검사 장치 및 EUV 마스크 검사 방법 |
2021.11.04 |
10-2021-0150217 |
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35 |
MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
2021.09.01 |
17/463,854 |
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34 |
펠리클 홀딩 모듈, 이를 포함하는 펠리클 열적 내구성 평가 장치, 및 펠리클 열적 내구성 평가 방법 |
2021.08.09 |
PCT/KR2021/010473 |
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33 |
3차원 적층 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
2020.11.24 |
10-2020-0158856 |
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32 |
자외선 광을 이용한 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 평가 장치와 그 방법 |
2020.09.17 |
10-2020-0120062 |
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31 |
결함에 둔감한 극자외선 리소그래피용 위상변위 마스크 |
2020.02.26 |
PCT/KR2020/002774 |
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30 |
PELLICLE ETCHING JIG AND PELLICLE ETCHING SYSTEM |
2019.10.02 |
PCT/KR2019/012966 |
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29 |
저항 변화 메모리 소자 및 이의 스위칭 방법 |
2019.09.18 |
10-2019-0114608 |
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28 |
투과형 박막을 포함하는 마스크 오염 방지 기술 |
2019.03.25 |
16915800.3 |
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27 |
에어갭이 포함된 상하 수직 소자의 연결 구조 |
2019.01.30 |
10-2019-0011956 |
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26 |
저항 변화 메모리 소자 및 이의 스위칭 방법 |
2019.01.21 |
10-2019-0007430 |
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25 |
Phase guide 도입을 통한 타이코그라피 이미징 정확도 향상 방법 |
2018.11.30 |
10-2018-0152069 |
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24 |
펠리클 및 펠리클과 결합된 마스크의 검사 장치 |
2018.11.30 |
10-2018-0152330 |
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23 |
극자외선 박막 펠리클 및 그 제조 방법 |
2018.08.27 |
10-2018-0100594 |
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22 |
마스크 3차원 효과를 완화시키는 극자외선 리소그래피용 마스크 |
2018.05.02 |
10-2018-0050618 |
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21 |
광 반사도 최소화를 위한 고내열성 극자외선 펠리클 |
2018.04.10 |
10-2018-0041464 |
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20 |
펠리클 멤브레인의 검사 데이터베이스 구축 방법 및 그 데이터베이스를 이용한 펠리클 멤브레인의 검사 방법 |
2018.02.22 |
10-2018-0021282 |
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19 |
인가전압의 극성 조절을 통한 저항 변화메모리 동작 방법 |
2017.12.12 |
10-2017-0170070 |
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18 |
ALD(atomic layer deposition)로 기계적 특성이 강화된 그래핀이 삽입 된 펠리클 구조 |
2017.04.21 |
PCT/KR2017/004287 |
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17 |
극자외선 노광 공정용 펠리클의 투과도 측정 장치 및 방법 |
2017.03.14 |
PCT/KR2017/002733 |
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16 |
EUV PELLICLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
2017.01.09 |
PCT/KR2017/000262 |
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15 |
MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME |
2016.09.20 |
PCT/KR2016/010478 |
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14 |
극자외선 노광 공정용 마스크 검사 장비의 광원 안정화를 위한 stabilizer 장치 |
2016.07.06 |
10-2016-0085401 |
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13 |
극자외선 노광공정용 마스크 및 펠리클의 결함 이미지를 최적의 품질로 재구성하기 위한 타이코그라피 알고리즘 내 피드백 파라미터 업데이트 기법 |
2016.05.10 |
10-2016-0057137 |
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12 |
PELLICLE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
2016.04.22 |
PCT/KR2016/004238 |
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11 |
감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제작 방법 |
2015.09.17 |
PCT/KR2015/009761 |
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10 |
열 방출층을 갖는 펠리클 및 그 제조 방법 |
2015.04.23 |
10-2015-0057401 |
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9 |
Pellicle for EUV lithography |
2015.04.15 |
PCT/KR2015/003783 |
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8 |
감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제작 방법 |
2014.09.19 |
10-2014-0125144 |
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7 |
3차원 프린팅 복합 재료, 및 그 제조 방법 |
2014.04.30 |
10-2014-0052988 |
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6 |
MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL |
2012.12.26 |
13/727,304 |
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5 |
나노임프린트 방법을 활용한 LED용 형광체 2차원 nanoparticle photonic crystal 층 제조 |
2011.03.31 |
10-2011-0029823 |
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4 |
다층구조 시스템의 반사도 및 위상 계산 시뮬레이션 방법 |
2006.10.24 |
10-2006-0103437 |
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3 |
MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL |
2006.06.01 |
PCT/KR2006/002112 |
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2 |
FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY |
2004.06.08 |
541015 |
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1 |
FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY |
2004.06.08 |
PCT/KR2004/001363 |
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