| Num | 특허명 | 출원일 | 출원번호 | 등록일 | 등록번호 |
|---|---|---|---|---|---|
| 141 | MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME | 2019.03.11 | 16/298,991 | 2022.08.02 | 11,402,746 |
| 140 | 위상 변위 마스크의 양불 검사 방법, 및 이를 위한 양불 검사 장치 | 2017.04.27 | 10-2017-0054483 | 2021.10.27 | 10-2320292 |
| 139 | EUV 리소그래피용 펠리클 제조 방법 및 그 제조 장치 | 2019.08.27 | 10-2019-0105407 | 2021.10.06 | 10-2312385 |
| 138 | PELLICLE HOLDER, PELLICLE INSPECTION APPARATUS, AND PELLICLE INSPECTION METHOD | 2019.11.21 | 16/690,254 | 2021.10.05 | US 11,137,693 |
| 137 | 펠리클 멤브레인의 검사 데이터베이스 구축 방법 및 그 데이터베이스를 이용한 펠리클 멤브레인의 검사 방법 | 2019.02.22 | 10-2019-0020824 | 2021.08.27 | 10-2297038 |
| 136 | EUV PELLICLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME | 2018.07.26 | 201780008507.3 | 2021.07.27 | CN 108604057 |
| 135 | 타이코그래피 이미징 장치 및 방법 | 2019.11.25 | 10-2019-0152462 | 2021.05.20 | 10-2256578 |
| 134 | 펠리클 홀더, 펠리클 검사 장치, 및 펠리클 검사 방법 | 2019.06.03 | 10-2019-0065308 | 2021.04.16 | 10-2243367 |
| 133 | EUV 리소그래피용 마스크 및 그 제조 방법 | 2019.04.30 | 10-2019-0050819 | 2021.04.01 | 10-2237572 |
| 132 | EUV pellicle structure and method for manufacturing same | 2018.07.26 | 16/046,355 | 2021.03.30 | US 10,962,876 |
| 131 | EUV pellicle structure and method for manufacturing same | 2017.01.09 | PCT/KR2017/000263 | 2021.03.30 | US 10,962,876 |
| 130 | 절연막의 제조 방법, 및 이를 이용한 절연막 | 2017.08.11 | 10-2017-0101993 | 2021.02.15 | 10-2217847 |
| 129 | 극자외선 리소그래피용 마스크, 및 그 제조 방법 | 2019.03.18 | 10-2019-0030402 | 2021.02.04 | 10-2214777 |
| 128 | EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 | 2016.01.26 | 10-2016-0009285 | 2020.11.27 | 10-2186010 |
| 127 | 반도체 제조용 막 | 2018.04.10 | 10-2018-0041816 | 2020.11.26 | 10-2185991 |
| 126 | 펠리클 식각 지그 및 펠리클 식각 시스템 | 2018.10.05 | 10-2018-0119128 | 2020.07.28 | 10-2140870 |
| 125 | Pellicle for EUV lithography | 2016.10.17 | 201580020112.6 | 2020.07.10 | CN 106233202 |
| 124 | 펠리클 구조체 및 이를 이용한 리소그래피용 마스크의 결함 검사 방법 | 2018.03.28 | 10-2018-0036176 | 2020.04.06 | 10-2100029 |
| 123 | 스페이서 패턴 및 위상변위 패턴을 포함하는 위상변위 마스크 및 그 제조 방법 | 2018.01.12 | 10-2018-0004426 | 2019.11.27 | 10-2051730 |
| 122 | EUV 마스크 세정 용액 및 그 세정 방법 | 2017.04.27 | 10-2017-0054517 | 2019.04.18 | 10-1972212 |
| 121 | EUV 리소그래피용 펠리클 제조 방법 | 2014.11.19 | 10-2014-0161522 | 2018.12.21 | 10-1933739 |
| 120 | Mask for extreme ultraviolet lithography process and method of fabricating the same | 2015.08.13 | 14/825,572 | 2018.08.28 | US 10,061,190 |
| 119 | 감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제작 방법 | 2015.09.10 | 10-2015-0128214 | 2018.05.17 | 10-1860987 |
| 118 | Pellicle for EUV lithography | 2016.10.14 | 15/304,275 | 2018.05.01 | US 9,958,770 |
| 117 | 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치 | 2016.09.12 | 10-2016-0117214 | 2018.04.05 | 10-1848153 |
| 116 | 펠리클의 검사 장치 및 그 검사 방법 | 2016.03.23 | 10-2016-0034688 | 2017.12.04 | 10-1807396 |
| 115 | EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 | 2016.04.21 | 10-2016-0048538 | 2017.10.25 | 10-1792409 |
| 114 | EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 | 2016.01.13 | 10-2016-0004118 | 2017.07.20 | 10-1762059 |
| 113 | EUV 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법 | 2016.02.04 | 10-2016-0014268 | 2017.04.05 | 10-1726125 |
| 112 | 극자외선 노광 공정용 마스크, 및 그 제조 방법 | 2015.06.04 | 10-2015-0079159 | 2017.04.05 | 10-1726045 |
| 111 | 극자외선 리소그래피용 펠리클 구조체 | 2015.10.23 | 10-2015-0148183 | 2017.03.03 | 10-1714908 |
| 110 | 3차원 프린팅 복합 재료, 및 그 제조 방법 | 2015.04.30 | 10-2015-0061260 | 2016.12.22 | 10-1690871 |
| 109 | 마스크 및 펠리클의 교정 공정을 포함하는 노광 방법, 및 노광 장치 | 2015.04.24 | 10-2015-0057870 | 2016.12.22 | 10-1690869 |
| 108 | EUV 리소그래피용 펠리클 및 그 제조방법 | 2014.04.17 | 10-2014-0046218 | 2016.11.23 | 10-1680937 |
| 107 | 단일층 흡수체 박막을 이용한 극자외선 노광공정용 위상반전마스크 | 2012.11.23 | 10-2012-0133967 | 2016.11.09 | 10-1676514 |
| 106 | EUV 리소그래피용 펠리클 | 2014.04.17 | 10-2014-0046210 | 2016.11.08 | 10-1676095 |
| 105 | 펠리클 및 그 제조 방법 | 2015.04.24 | 10-2015-0057962 | 2016.05.18 | 10-1624078 |
| 104 | 나노 전극층 생성 방법 | 2014.06.02 | 10-2014-0066930 | 2016.04.28 | 10-1618436 |
| 103 | 저항 메모리 소자에서 전극 생성 방법 | 2014.05.23 | 10-2014-0062535 | 2015.11.13 | 10-1570605 |
| 102 | 비휘발성 메모리 소자 및 그 제조 방법 | 2014.03.20 | 10-2014-0032925 | 2015.06.05 | 10-1528421 |
| 101 | 극자외선 노광 공정용 마스크 | 2013.07.15 | 10-2013-0082724 | 2015.04.06 | 10-1511426 |
| 100 | 극자외선 노광 공정용 마스크 | 2013.07.15 | 10-2013-0082688 | 2015.01.30 | 10-1490603 |
| 99 | 나노스피어 어레이 제조 장치 및 이를 이용한 나노스피어 어레이 제조 방법 | 2013.11.29 | 10-2013-0146831 | 2014.11.10 | 10-1462357 |
| 98 | 3차원 탄소나노튜브 네트워크를 포함하는 태양전지 및 이의 제조방법 | 2011.11.10 | 10-2011-0117103 | 2014.07.11 | 10-1420905 |
| 97 | 광결정 구조체, 이를 포함하는 발광 다이오드 및 이의 제조방법 | 2012.04.02 | 10-2012-0033815 | 2013.10.29 | 10-1325323 |
| 96 | 광추출 효율이 향상된 2차원 광결정 구조체 및 이의 제조방법 | 2011.04.20 | 10-2011-0036951 | 2013.08.16 | 10-1299359 |
| 95 | 다양한 크기의 나노스피어를 이용한 2차원 광결정 구조체 및 이의 제조방법２Ｄ | 2012.01.25 | 10-2012-0007402 | 2013.07.17 | 10-1289200 |
| 94 | 극자외선 노광용 마스크 및 그의 제조방법 | 2012.02.13 | 10-2012-0014265 | 2013.07.08 | 10-1285975 |
| 93 | 극자외선 노광 공정용 반사형 마스크 결함 검출 장치 및 방법 | 2009.11.05 | 10-2009-0106310 | 2013.05.31 | 10-1272039 |
| 92 | MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL | 2006.06.01 | 513038 | 2013.03.01 | 5208108 |
| 91 | MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL | 2008.11.21 | 12/227,594 | 2013.01.29 | US 8,361,545 |
| 90 | Ge 기판 위에 유전막을 형성하는 방법 및 이를 이용한 전계효과장치의 제조 방법 및 전계효과장치 | 2010.09.17 | 10-2010-0091532 | 2012.05.25 | 10-1152441 |
| 89 | FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY | 2006.05.13 | 112004002199.5 | 2012.03.08 | 112004002199.5 |
| 88 | 극자외선 노광 공정용 위상 반전 마스크 | 2009.07.22 | 10-2009-0066745 | 2011.08.01 | 10-1054746 |
| 87 | FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY | 2006.05.09 | 10/578,683 | 2009.03.24 | US 7,507,505 |
| 86 | 위상 반전 마스크 및 이의 제조방법 | 2007.08.31 | 10-2007-0088456 | 2009.01.09 | 10-0879139 |
| 85 | 극자외선 노광공정용 마스크 및 그의 제조방법 | 2006.09.09 | 10-2006-0087094 | 2008.01.30 | 10-0801484 |
| 84 | 극자외선 노광 공정용 Ru/Mo/Si 반사형 다층 박막 미러 | 2001.05.23 | 10-2001-0028385 | 2007.05.31 | 10-0725859 |
| 83 | 절연막의 적층증착에 의한 저항 메모리 소자의 제조방법 | 2005.06.23 | 10-2005-0054341 | 2007.05.22 | 10-0722853 |
| 82 | 고분자 탄성 중합체를 사용한 자체 전사에 의한 미세패턴의형성방법 | 2006.01.10 | 10-2006-0002526 | 2007.04.26 | 10-0714218 |
| 81 | 점착 방지막을 지니는 스탬프의 구조 및 제조방법과 이에의한 나노패턴 전사방법 | 2005.07.07 | 10-2005-0061325 | 2006.12.28 | 10-0665038 |
| 80 | 원자력간 현미경 리소그래피 기술을 이용한 극자외선 노광공정용 반사형 다층 박막 미러의 제조방법 | 2003.11.20 | 10-2003-0082777 | 2006.01.04 | 10-0542464 |
| 79 | 반사형 다층 박막 미러 및 그 제조 방법 | 2001.12.24 | 10-2001-0084340 | 2004.10.13 | 10-0454081 |
| 78 | 구조인자 조절을 통한 극자외선 노광공정용 Mo/Si 반사형 다층박막 | 2002.02.20 | 10-2002-0009057 | 2003.12.09 | 10-0412069 |
| 77 | 마스크 멤브레인의 제조방법 | 2001.04.30 | 10-2001-0023327 | 2003.07.08 | 10-0392191 |
| 76 | 3차원 메모리 어레이 및 그 제조 방법 | 2024.02.08 | 10-2024-0019972 | ||
| 75 | 이온주입공정을 활용한 극자외선 노광공정용 마스크 제작 방법 | 2024.01.29 | 10-2024-0012979 | ||
| 74 | 보호층 증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 | 2024.01.03 | PCT/KR2024/000092 | ||
| 73 | 멤브레인 제작을 위한 습식 식각 공정에서의 멤브레인의 공정 및 제작 균일도 향상을 위한 구조 및 구조체 | 2023.10.31 | 10-2023-0147759 | ||
| 72 | Free-standing 멤브레인 제작을 위한 습식 식각 공정에서의 멤브레인 오염 최소화를 위한 구조 및 그 구조체 | 2023.10.31 | 10-2023-0147758 | ||
| 71 | 극자외선 노광공정용 마스크 합금형 흡수체 소재 | 2023.11.21 | 10-2023-0162662 | ||
| 70 | 회절광 위상 특성 최적화를 통한 극자외선 리소그래피용 마스크 성능 향상 기술 | 2023.11.10 | 10-2023-0155321 | ||
| 69 | EUV 포토레지스트의 최적화된 성능을 위한 다양한 무기나노층들이 수직 설계 및 증착된 나노라미네이트 무기다층막 포토레지스트 제작 방법 및 구조 | 2023.07.10 | 18/349,504 | ||
| 68 | 자외선 광을 이용한 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 평가 장치와 그 방법 | 2023.09.25 | 10-2023-0127687 | ||
| 67 | 극자외선 광의 위상 변위량 및 굴절계수 측정 장치 및 방법 | 2023.09.06 | 10-2023-0118214 | ||
| 66 | 반도체 소자와 3차원 메모리 소자 및 이들의 제조 방법 | 2023.08.04 | 10-2023-0102304 | ||
| 65 | DRAM용 반도체 소자 및 그의 제조방법 | 2023.07.04 | PCT/KR2023/009387 | ||
| 64 | 다층메모리의 커패시터 제조방법 | 2023.06.23 | 10-2023-0081285 | ||
| 63 | 보호층 증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 | 2023.06.21 | 10-2023-0079681 | ||
| 62 | 극자외선 마스크 소재의 위상 측정 장치 및 그 방법 | 2023.05.25 | PCT/KR2023/007157 | ||
| 61 | 조명계 조절을 통한 EUV 마스크의 검사 해상도 향상 기법 | 2023.05.25 | PCT/KR2023/007158 | ||
| 60 | 극자외선 노광공정용 펠리클 및 마스크 종합 검사 장치 | 2023.04.07 | PCT/KR2023/004718 | ||
| 59 | Optical flat을 이용한 extreme ultraviolet 블랭크마스크 검사 장치 및 그 방법 | 2023.04.03 | 10-2023-0043329 | ||
| 58 | 위상 복원 알고리즘을 이용한 EUV 소재의 광학 상수 측정 장치와 그 방법 | 2023.03.24 | 10-2023-0038378 | ||
| 57 | 소재의 극자외선 광 특성 평가 및 패턴 마스크 검사 장치 | 2023.03.24 | 10-2023-0038380 | ||
| 56 | DRAM의 커패시터 및 그 제조 방법 | 2023.03.22 | 10-2023-0037185 | ||
| 55 | 조리개 합성 및 비축조명 기술을 이용한 고개구수 극자외선 노광공정용 마스크 검사 장치 및 방법 | 2023.03.16 | 10-2023-0034810 | ||
| 54 | 자외선 광을 이용한 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 평가 장치와 그 방법 | 2023.03.13 | 18/179,875 | ||
| 53 | 극자외선 광원의 결맞음성 조절을 이용한 고해상도 마스크 검사 장치 및 그 방법 | 2023.03.10 | 10-2023-0031617 | ||
| 52 | 극자외선 노광공정용 마스크 합금형 흡수체 소재 | 2023.07.03 | 10-2023-0086037 | ||
| 51 | 보호층 증착을 통한 다공성 구조의 EUV 펠리클 제작 방법 | 2023.01.03 | 10-2023-0000492 | ||
| 50 | Free-standing membrane 구조의 희생층에 펠리클화 기반층 직접 증착을 통한 EUV 펠리클 제작 방법 | 2023.01.03 | 10-2023-0000491 | ||
| 49 | 2차원 다각형 조합의 다공 배열을 포함한 고투과/저반사 EUV 펠리클 및 그 구조 | 2023.01.03 | 10-2023-0000490 | ||
| 48 | 펠리클 세정 장치 및 이를 이용한 펠리클 세정 방법 | 2021.12.23 | 10-2021-0185830 | ||
| 47 | PELLICLE CLEANING APPARATUS AND PELLICLE CLEANING METHOD USING THE SAME | 2022.12.23 | 202211663432.1 | ||
| 46 | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 | 2022.08.12 | PCT/KR2022/012143 | ||
| 45 | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트 및 이의 제조방법 | 2022.08.12 | 10-2022-0101505 | ||
| 44 | DRAM 소자의 캐패시터 및 그 제조 방법 | 2022.07.04 | 10-2022-0081588 | ||
| 43 | MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME | 2022.06.28 | 17/851,580 | ||
| 42 | 조명계 조절을 통한 EUV 마스크 검사 장치 및 방법 | 2022.06.02 | 10-2022-0067753 | ||
| 41 | EUV 마스크 소재의 굴절계수 및 흡광계수 측정 장치 및 방법 | 2022.05.30 | 10-2022-0066154 | ||
| 40 | EUV 노광공정용 종합 검사 장치 | 2022.04.07 | 10-2022-0043229 | ||
| 39 | 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 개선 방법 | 2021.11.24 | 10-2021-0162990 | ||
| 38 | 극자외선 양산 공정 적용을 위해 다층 박막 간 inter-mixing layer를 기형성한 펠리클 구조체 | 2021.11.11 | 10-2021-0155031 | ||
| 37 | 3차원 DRAM용 반도체의 Array 구조 및 그의 제조방법 | 2021.11.10 | 10-2021-0154047 | ||
| 36 | EUV 마스크 검사 장치 및 EUV 마스크 검사 방법 | 2021.11.04 | 10-2021-0150217 | ||
| 35 | MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME | 2021.09.01 | 17/463,854 | ||
| 34 | 펠리클 홀딩 모듈, 이를 포함하는 펠리클 열적 내구성 평가 장치, 및 펠리클 열적 내구성 평가 방법 | 2021.08.09 | PCT/KR2021/010473 | ||
| 33 | 3차원 적층 반도체 소자 및 그 제조 방법 | 2020.11.24 | 10-2020-0158856 | ||
| 32 | 자외선 광을 이용한 극자외선 노광 공정용 펠리클의 열적 내구성 평가 장치와 그 방법 | 2020.09.17 | 10-2020-0120062 | ||
| 31 | 결함에 둔감한 극자외선 리소그래피용 위상변위 마스크 | 2020.02.26 | PCT/KR2020/002774 | ||
| 30 | PELLICLE ETCHING JIG AND PELLICLE ETCHING SYSTEM | 2019.10.02 | PCT/KR2019/012966 | ||
| 29 | 저항 변화 메모리 소자 및 이의 스위칭 방법 | 2019.09.18 | 10-2019-0114608 | ||
| 28 | 투과형 박막을 포함하는 마스크 오염 방지 기술 | 2019.03.25 | 16915800.3 | ||
| 27 | 에어갭이 포함된 상하 수직 소자의 연결 구조 | 2019.01.30 | 10-2019-0011956 | ||
| 26 | 저항 변화 메모리 소자 및 이의 스위칭 방법 | 2019.01.21 | 10-2019-0007430 | ||
| 25 | Phase guide 도입을 통한 타이코그라피 이미징 정확도 향상 방법 | 2018.11.30 | 10-2018-0152069 | ||
| 24 | 펠리클 및 펠리클과 결합된 마스크의 검사 장치 | 2018.11.30 | 10-2018-0152330 | ||
| 23 | 극자외선 박막 펠리클 및 그 제조 방법 | 2018.08.27 | 10-2018-0100594 | ||
| 22 | 마스크 3차원 효과를 완화시키는 극자외선 리소그래피용 마스크 | 2018.05.02 | 10-2018-0050618 | ||
| 21 | 광 반사도 최소화를 위한 고내열성 극자외선 펠리클 | 2018.04.10 | 10-2018-0041464 | ||
| 20 | 펠리클 멤브레인의 검사 데이터베이스 구축 방법 및 그 데이터베이스를 이용한 펠리클 멤브레인의 검사 방법 | 2018.02.22 | 10-2018-0021282 | ||
| 19 | 인가전압의 극성 조절을 통한 저항 변화메모리 동작 방법 | 2017.12.12 | 10-2017-0170070 | ||
| 18 | ALD(atomic layer deposition)로 기계적 특성이 강화된 그래핀이 삽입 된 펠리클 구조 | 2017.04.21 | PCT/KR2017/004287 | ||
| 17 | 극자외선 노광 공정용 펠리클의 투과도 측정 장치 및 방법 | 2017.03.14 | PCT/KR2017/002733 | ||
| 16 | EUV PELLICLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME | 2017.01.09 | PCT/KR2017/000262 | ||
| 15 | MASK PROTECTIVE MODULE, PELLICLE HAVING THE SAME, AND LITHOGRAPHY APPARATUS HAVING THE SAME | 2016.09.20 | PCT/KR2016/010478 | ||
| 14 | 극자외선 노광 공정용 마스크 검사 장비의 광원 안정화를 위한 stabilizer 장치 | 2016.07.06 | 10-2016-0085401 | ||
| 13 | 극자외선 노광공정용 마스크 및 펠리클의 결함 이미지를 최적의 품질로 재구성하기 위한 타이코그라피 알고리즘 내 피드백 파라미터 업데이트 기법 | 2016.05.10 | 10-2016-0057137 | ||
| 12 | PELLICLE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR | 2016.04.22 | PCT/KR2016/004238 | ||
| 11 | 감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제작 방법 | 2015.09.17 | PCT/KR2015/009761 | ||
| 10 | 열 방출층을 갖는 펠리클 및 그 제조 방법 | 2015.04.23 | 10-2015-0057401 | ||
| 9 | Pellicle for EUV lithography | 2015.04.15 | PCT/KR2015/003783 | ||
| 8 | 감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제작 방법 | 2014.09.19 | 10-2014-0125144 | ||
| 7 | 3차원 프린팅 복합 재료, 및 그 제조 방법 | 2014.04.30 | 10-2014-0052988 | ||
| 6 | MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL | 2012.12.26 | 13/727,304 | ||
| 5 | 나노임프린트 방법을 활용한 LED용 형광체 2차원 nanoparticle photonic crystal 층 제조 | 2011.03.31 | 10-2011-0029823 | ||
| 4 | 다층구조 시스템의 반사도 및 위상 계산 시뮬레이션 방법 | 2006.10.24 | 10-2006-0103437 | ||
| 3 | MANUFACTURING METHOD OF PHOTONIC CRYSTAL | 2006.06.01 | PCT/KR2006/002112 | ||
| 2 | FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY | 2004.06.08 | 541015 | ||
| 1 | FABRICATION METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION MASK MIRROR USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE LITHOGRAPHY | 2004.06.08 | PCT/KR2004/001363 |
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